駐波是使用光學(xué)曝光和正光刻膠時(shí)出現(xiàn)的問題（覓第10章）。一種減小駐波效應(yīng)的方法是在曝光后烘焙晶圓。KS8695P烘焙的方法可以是前述方法的任何一種。曝光后烘焙( PEB)的時(shí)間和溫度的規(guī)范是由烘焙方法、曝光條件，以及光刻膠化學(xué)所決定的。

   電子束光刻機(jī)：電子束光刻是一項(xiàng)成熟的技術(shù)，用于制造高精度掩模版（見圖8. 51）。該系統(tǒng)包括一個(gè)電子發(fā)射源，它能產(chǎn)生小直徑柬斑和一個(gè)能夠開關(guān)電子束的快門。為防止空氣分子對(duì)電子束的影響，曝光必須在真空環(huán)境中進(jìn)行。束流通過具有定（或轉(zhuǎn)向）能力的靜電板，可以導(dǎo)向掩模版或晶圓的x-y方向。該系統(tǒng)在功能上類似于電視機(jī)的束流控制系統(tǒng)。為得到精確的束流方向，束流需要在真空反應(yīng)室中穿行，該反應(yīng)室中有電子束發(fā)射源，支撐結(jié)構(gòu)以及可以曝光的襯底。

   由于所需圖形從計(jì)算機(jī)中生成，因此沒有掩模版。束流通過偏轉(zhuǎn)子系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)表面特定位置，然后在將要曝光的光刻膠上開啟電子束。較大的襯底則被放置在x-y承片臺(tái)上，并在電子束下移動(dòng)，從而得到整個(gè)表面的曝光。這種對(duì)準(zhǔn)和曝光技術(shù)稱為直寫( direct writing)。

   圖形在光刻膠上的曝光是通過光柵掃描或矢量掃描完成的（見圖8. 50）。光柵掃描就是電子束由一邊移動(dòng)到另一邊，再向下逐行掃描。計(jì)算機(jī)控制掃描的運(yùn)動(dòng)逋程，并在將要被曝光區(qū)域的光刻膠上開啟快門。光柵掃描的一個(gè)缺點(diǎn)是由于電子束必須經(jīng)過個(gè)表面，因此掃描所需的時(shí)間較長。對(duì)于矢量掃描，電子束直接移動(dòng)到需要曝光的區(qū)域（見圖8. 51）。在每一個(gè)位置上，對(duì)小正方形或矩形面積的曝光構(gòu)成了想要得到的整個(gè)曝光區(qū)域的形狀。