噴霧式顯影：最受歡迎L3037QN-B6的化學顯影方法是噴霧式的。事實上，通常有很多原因使噴霧式工藝對于任何濕法工藝（清潔、顯影、刻蝕）來講比沉浸式工藝更受歡迎。例如，用噴霧式系統(tǒng)可大大降低化學品的使用。工藝的提高包括由于因噴霧壓力的機械動作而限定光刻膠邊緣和去除部分光刻膠塊而帶來較好的圖案清晰度。因為每個晶圓都是用新的化學顯影液（或刻蝕、或清洗），所以噴霧式系統(tǒng)總是比沉浸系統(tǒng)清潔。

  噴霧式工藝可在單片或批量系統(tǒng)中完成。在單片晶圓配置中（見圖9.7），晶圓被真空吸在吸盤上并旋轉(zhuǎn)，同時顯影液和沖洗液依次噴射到晶圓表面。沖洗之后，立即提高晶圓吸盤旋轉(zhuǎn)速度將晶圓甩干。在外觀和設(shè)計上，單晶圓噴霧式系統(tǒng)和旋轉(zhuǎn)式涂膠機一樣只是通入不同的化學品。單晶圓噴霧式系統(tǒng)具有町集成顯影和硬烘焙工藝而實現(xiàn)自動化的優(yōu)點。這些工藝系統(tǒng)的一個主要優(yōu)點是直接噴灑到晶圓表面的化學品的均勻性的提高。

   正光刻膠顯影液對于溫度比負光刻膠更敏感。問題在于液體在壓力下從噴嘴噴出后便很快冷卻。稱為隔熱冷卻( adia-

batic cooling)，用于正光刻膠的噴射顯影系統(tǒng)通常由加熱的晶圓吸盤或加熱的噴嘴來控制溫度。用于正光刻膠的噴射顯影所遇到的其他問題，是當使用堿顯影液和水基顯影液噴出時產(chǎn)生的泡沫而造成機器的老化。批量顯影系統(tǒng)有兩種形式：單舟和多舟。這些機器是旋轉(zhuǎn)沖洗甩干，這在第7章中有所描述。顯影系統(tǒng)要求額外的管道來供應(yīng)顯影化學品。多批顯影系統(tǒng)一般比直接噴射單晶圓系統(tǒng)的均勻性低，因為它不是噴射到每個晶圓的表面上，并且正光刻膠工藝的溫度控制更加復雜。