防反射涂層(ARC)是在涂光刻膠之前在晶圓表面涂的一層物質(zhì)，用來(lái)幫助光刻膠小圖形成像（見圖10. 23）。防反射涂層對(duì)成像過(guò)程有幾點(diǎn)幫助：NCP305LSQ27T1第一，平整晶圓表面，這樣可以使光刻膠涂層更為平坦；第二，防反射涂層切斷了從晶圓表面到光刻膠中散射的光線，這樣有助于曝光更小尺寸的圖形。防反射涂層還能將駐波效應(yīng)降到最低并增強(qiáng)圖形反差。后者得益于用合適的防反射涂層增加了曝光裕度。

   防反射涂層涂在晶圓表面以后先要經(jīng)過(guò)烘焙，接著涂光刻膠，對(duì)準(zhǔn)和曝光。然后光刻膠和防反射涂層一起被顯影。在刻蝕過(guò)程中，留在晶圓表面的防反射涂層和光刻膠一起作為刻蝕阻擋層。有效的防反射涂層材料應(yīng)與光刻膠有相同范圍的透光性，而且對(duì)晶圓表面和光刻膠都應(yīng)具有很好的黏附性。另外還有兩個(gè)要求，一個(gè)是防反射涂層的反射系數(shù)必須與光刻膠匹配，另一個(gè)是防反射涂層必須使用和光刻膠相同的顯影液和去除液。

   使用防反射涂層也會(huì)帶來(lái)一些負(fù)面影響，其中一個(gè)是需要增加額外的涂層工藝和烘焙工藝。用防反射涂層獲得的分辨率增強(qiáng)，可能會(huì)使膜厚度和顯影過(guò)程變得難控制。相對(duì)晶圓產(chǎn)出時(shí)間，曝光時(shí)間可能增加30%—500/0。防反射涂層也可以在三層光刻膠工藝中作為中間層或涂在光刻膠的上面（上涂防反射層或TAR）。