硫酸和氧化劑溶液：EL2028CSZ硫酸和氧化劑溶液（過氧化氫或過硫酸銨22）是最常用的去除無金屬表面( nonmetallic surfaces)光刻膠層的去除劑。無金屬表面是二氧化硅、氮化硅或多晶硅。，這種溶液可去除負(fù)光刻膠和正光刻膠．，相同的化學(xué)溶液和工藝用于在第7章描述的預(yù)爐管清洗晶圓中。

   硝酸有時(shí)作為在硫酸清洗池中的添加氧化劑。典型的混合比為10：1。硝酸有一個(gè)缺點(diǎn)是會把清洗池變成淡橘黃色而遮蓋住池中碳的積累。所有這些溶液都以氧化機(jī)理來溶解光刻膠。

  有金屬表面的濕法化學(xué)擊除

   從有金屬表面去除光刻膠是一個(gè)比較困難的工作，因?yàn)榻饘贂艿角治g或氧化。有4種類型的液體化學(xué)品用于去除有金屬表面的光刻膠：

   1．有機(jī)去除劑。

   2．溶劑去除劑。

   3．溶劑／胺去除劑。

   4．特殊去除劑。

   酚有機(jī)去除劑：有機(jī)去除劑包含磺酸（有機(jī)酸）和氯化碳?xì)淙軇┑慕M合，例如duodexabenzene。配方要求苯酚形成可沖洗的溶液。在20世紀(jì)70年代，由于對這些配方中有毒成分的擔(dān)心而導(dǎo)致了磺酸、非酚的、非氯化的i馴去除劑的開發(fā)。去除光刻膠要求將溶液加熱到900C—120。C的范圍。丁藝中常使用2個(gè)或3個(gè)加熱的去除池。清洗以兩步進(jìn)行，第一步是溶劑，然后用水清洗，其后是干燥工序。