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光刻膠的光散射現(xiàn)象

發(fā)布時間:2015/11/3 20:02:19 訪問次數(shù):1309

   除了入射光線被反射離開晶圓表面,入射光線也會因發(fā)生漫反射而進(jìn)入光刻膠引起圖形定義不好。NCP305LSQ25T1漫射的程度與光刻膠的厚度成比例。光刻膠里的一些輻射吸收染色劑也會增加漫反射吸收量,因而降低分辨率。    ‘0. 5.2光刻膠里的光反射現(xiàn)象 高強(qiáng)度的輻射線理想狀況下應(yīng)該是90。角直射晶圓表面。在這種情況下,光波在光刻膠中垂直上下反射,留下良好的曝光圖形(見圖10. 21)。但實際情況是,一些曝光光波總是偏離90。角而使不應(yīng)曝光的部分受到照射。

   這種光刻膠里的反射率因晶圓表面材料和晶圓表面平坦度不同而變化。金屬層,特別是鋁和鋁合金,具有很強(qiáng)的反射率。淀積工藝的一個目標(biāo)就是均勻和平坦晶圓表面,以控制這種反射。

   反射問題在表面有很多臺階(也被稱為各種形貌)的晶圓中尤為突出。這些臺階的側(cè)面將入射光以一定角度反射人光刻膠里,引起圖形分辨率退化。一個特別的問題就是臺階處發(fā)生光干涉現(xiàn)象從而引起階梯處圖形出現(xiàn)“凹門”(見圖10.22)。

   




   除了入射光線被反射離開晶圓表面,入射光線也會因發(fā)生漫反射而進(jìn)入光刻膠引起圖形定義不好。NCP305LSQ25T1漫射的程度與光刻膠的厚度成比例。光刻膠里的一些輻射吸收染色劑也會增加漫反射吸收量,因而降低分辨率。    ‘0. 5.2光刻膠里的光反射現(xiàn)象 高強(qiáng)度的輻射線理想狀況下應(yīng)該是90。角直射晶圓表面。在這種情況下,光波在光刻膠中垂直上下反射,留下良好的曝光圖形(見圖10. 21)。但實際情況是,一些曝光光波總是偏離90。角而使不應(yīng)曝光的部分受到照射。

   這種光刻膠里的反射率因晶圓表面材料和晶圓表面平坦度不同而變化。金屬層,特別是鋁和鋁合金,具有很強(qiáng)的反射率。淀積工藝的一個目標(biāo)就是均勻和平坦晶圓表面,以控制這種反射。

   反射問題在表面有很多臺階(也被稱為各種形貌)的晶圓中尤為突出。這些臺階的側(cè)面將入射光以一定角度反射人光刻膠里,引起圖形分辨率退化。一個特別的問題就是臺階處發(fā)生光干涉現(xiàn)象從而引起階梯處圖形出現(xiàn)“凹門”(見圖10.22)。

   




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