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化學(xué)機(jī)械拋光小結(jié)

發(fā)布時(shí)間:2015/11/4 22:07:29 訪問次數(shù):549

   化學(xué)機(jī)械拋光是一步關(guān)鍵的平坦化工藝,它需要平衡高度集成化和許多工藝參數(shù)。 ADS7863IRGET主要參數(shù)是:研磨墊的構(gòu)成、研磨墊的壓力、研磨墊旋轉(zhuǎn)速度、機(jī)臺(tái)旋轉(zhuǎn)速度、磨料漿的流速、磨料漿的化學(xué)成分、磨料漿的材料選擇。加之對(duì)光刻工藝平整度的改善,化學(xué)機(jī)械拋光使雙大馬十革圖形化和銅金屬化工藝得以實(shí)現(xiàn)。這一應(yīng)用將在第13章進(jìn)一步探討。

   一螳器件設(shè)計(jì)使用一層或多層硬平整化涂層。通常淀積具有4%~5%硼摻雜的二氧化硅,稱為硼硅玻璃( BSG)。由于硼的存在使二氧化硅在相對(duì)低的溫度(小于500℃)下液化流動(dòng),形成平坦的表面。

   另一種硬平坦化層為旋轉(zhuǎn)涂敷玻璃層( SOG)。玻璃層為二氧化硅和一種易揮發(fā)溶劑的混合體,旋轉(zhuǎn)涂敷在晶圓表面后,烘焙玻璃膜,留下平坦的二氧化硅膜。旋轉(zhuǎn)時(shí)玻璃是易碎的,有時(shí)在其中添加1%~10%的碳來增加抗裂性。

   化學(xué)機(jī)械拋光是一步關(guān)鍵的平坦化工藝,它需要平衡高度集成化和許多工藝參數(shù)。 ADS7863IRGET主要參數(shù)是:研磨墊的構(gòu)成、研磨墊的壓力、研磨墊旋轉(zhuǎn)速度、機(jī)臺(tái)旋轉(zhuǎn)速度、磨料漿的流速、磨料漿的化學(xué)成分、磨料漿的材料選擇。加之對(duì)光刻工藝平整度的改善,化學(xué)機(jī)械拋光使雙大馬十革圖形化和銅金屬化工藝得以實(shí)現(xiàn)。這一應(yīng)用將在第13章進(jìn)一步探討。

   一螳器件設(shè)計(jì)使用一層或多層硬平整化涂層。通常淀積具有4%~5%硼摻雜的二氧化硅,稱為硼硅玻璃( BSG)。由于硼的存在使二氧化硅在相對(duì)低的溫度(小于500℃)下液化流動(dòng),形成平坦的表面。

   另一種硬平坦化層為旋轉(zhuǎn)涂敷玻璃層( SOG)。玻璃層為二氧化硅和一種易揮發(fā)溶劑的混合體,旋轉(zhuǎn)涂敷在晶圓表面后,烘焙玻璃膜,留下平坦的二氧化硅膜。旋轉(zhuǎn)時(shí)玻璃是易碎的,有時(shí)在其中添加1%~10%的碳來增加抗裂性。

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