在表面層中的圖形尺寸最終是由曝光和刻蝕工藝共同決定的。在工藝中，ADS7868IDBVT鉆蝕（光刻膠支撐）的地方是個(gè)問(wèn)題，例如鋁刻蝕，尺寸變化的刻蝕成分可能是決定性的因素。

   一種可以消除刻蝕變差的方法稱為剝離工藝（見(jiàn)圖10. 38）。在這一工藝中，晶圓經(jīng)過(guò)顯影過(guò)程，在需要淀積圖形的地方留下孔隙。通過(guò)調(diào)整曝光工藝和顯影工藝，使孔隙側(cè)壁產(chǎn)生負(fù)斜面。

    接著，在晶圓表面進(jìn)行淀積，淀積物覆蓋整個(gè)晶圓表面并進(jìn)入孔隙中，，然后，將晶圓表面光刻膠除去，光刻膠會(huì)連帶將覆蓋其上的淀積物一并去除，這樣就只留下了孔隙中的淀積物，即所需的圖形。通常去除步驟會(huì)伴隨超聲波激勵(lì)，這樣有助于在光刻膠邊緣的淀積膜形成清晰的斷裂界線。光刻膠和淀積膜去除后，在晶圓表面留下了希望的圖形。