Herscy系數(shù)與摩擦系數(shù)及拋光液混合膜的關(guān)系,從中可得到隨著Hers叩系數(shù)的增加,MLV-L01D摩擦系數(shù)與拋光液混合膜有明顯的變化趨勢(shì)。首先是拋光墊和晶片直接作用,此時(shí)摩擦系數(shù)很大,拋光液混合膜幾乎不存在,拋光主要以機(jī)械作用為主,接著是摩擦系數(shù)變小,拋光液混合膜作用變大,形成化學(xué)和機(jī)械共同作用。汪海波等人[1習(xí)研究得到Hcrscy系數(shù)為γ時(shí)拋光效果最好。

    摩擦系數(shù)和拋光液混合膜隨Hcrscy系數(shù)變化的關(guān)系

目前生產(chǎn)用的藍(lán)寶石拋光液一般呈堿性,其pH值對(duì)拋光速率有很大影響。隨著拋光液pH值的增加,拋光速率增加。拋光壓力可增加晶片與拋光墊之間的摩擦力,通常在其他條件都不變的情況下,拋光速率隨壓力的提高而加快。這其中的原因有幾個(gè)方面:一方面是拋光壓力增大導(dǎo)致摩擦力增加,拋光顆粒對(duì)晶片表面的碰撞加強(qiáng),增強(qiáng)了系統(tǒng)的機(jī)械作用;另一方面摩擦力的增加也使系統(tǒng)的溫度升高,化學(xué)反應(yīng)速率加快,增強(qiáng)了系統(tǒng)的化學(xué)作用。壓力過大會(huì)導(dǎo)致藍(lán)寶石表面出現(xiàn)缺陷、碎裂、產(chǎn)生腐蝕坑等問題。拋光液流量也是拋光過程中關(guān)鍵的參數(shù),拋光液流量增大,增加了系統(tǒng)內(nèi)的磨料和化學(xué)試的流動(dòng)速度,不但使單位時(shí)間內(nèi)與藍(lán)寶石晶片反應(yīng)的化學(xué)試劑的分子數(shù)增多,增強(qiáng)了化學(xué)作用,并且單位時(shí)間內(nèi)進(jìn)入系統(tǒng)的磨料數(shù)增加,增加了系統(tǒng)的機(jī)械作用,同時(shí)也使反應(yīng)產(chǎn)物能夠及時(shí)排除,加快了系統(tǒng)內(nèi)的物質(zhì)交換。但是過大的拋光液流量也是不可取的,一方面成本增大,另一方面過大的流量會(huì)減少參與機(jī)械磨削的有效粒子數(shù),也會(huì)使系統(tǒng)的溫度降低,減慢了化學(xué)作用。