拋光墊是拋光機(jī)上重要部件,概括起MLV-L02D來(lái)拋光墊的作用有4點(diǎn):

   ①把拋光液有效均勻的輸送到不同區(qū)域;

   ②將拋光后的反應(yīng)物、碎屑等順利排出;

   ③維持拋光墊表面的拋光液薄膜,以便化學(xué)反應(yīng)充分進(jìn)行;

   ④保持拋光過(guò)程的平穩(wěn)、表面不變形,以便獲得較好的表面形貌。

   衡量拋光墊的參數(shù)有硬度、壓縮比、涵養(yǎng)量、粗糙度、密度、厚度等。拋光墊使用一段時(shí)間后往往需要用金剛石對(duì)拋光墊進(jìn)行修整,可以有效的去除表面的釉化層,使得拋光墊表面恢復(fù)均勻微孔,達(dá)到良好的拋光效果[1:]

   目前成熟運(yùn)用的拋光磨料有si02微米、納米顆粒(硅溶膠),它具有比重輕,容易懸浮,用量小,價(jià)格較為便宜,可以簡(jiǎn)單地做到納米級(jí),可以達(dá)到很低的粗糙度(R夕(2A)等優(yōu)勢(shì)。在堿性加壓條件下,藍(lán)寶石表面產(chǎn)生水化層,水化層可與Si02發(fā)生反應(yīng),其反應(yīng)方程式如式(⒋18)和式(⒋19)所示,反應(yīng)后的生產(chǎn)物更容易被機(jī)械去除[l叨。S⒑2磨料具有諸多優(yōu)勢(shì),使得其在市場(chǎng)上獲得廣泛應(yīng)用,但是它拋光的速率太慢,往往達(dá)到較低的粗糙度時(shí)需要數(shù)小時(shí)的拋光作業(yè)。保證拋光效果的前提下要提高拋光速率,通過(guò)設(shè)備、拋光墊、拋光工藝等均已經(jīng)非常困難,最理想的是開發(fā)新的拋光液。Abo3磨料拋光液較為合適,它具有與藍(lán)寶石相同的硬度,可以循環(huán)使用,對(duì)溫度沒有硅溶膠敏感等優(yōu)勢(shì)。AbO3磨料拋光液的開發(fā)需要解決分散穩(wěn)定性好、粒度小,純度高的剛玉粉體,需要解決表面劃傷的問題。