場發(fā)射在空間上的均勻性和時間上的穩(wěn)定性較差,這是由發(fā)射原理決定的。TPS73701DCQR在場發(fā)射中,為了產生有效發(fā)射,發(fā)射體表面電場非常強,不可能實現(xiàn)完全的空間電荷限制。發(fā)射電流不僅與陽極或柵極電壓有關,而且與發(fā)射體參數(shù)有關。微尖場發(fā)射過程中受表面形態(tài)變化、離子轟擊、氣體吸附等多種因素的影響,會造成發(fā)射電流起伏不定。電場發(fā)射現(xiàn)象對尖端的表面狀態(tài)非常敏感,發(fā)射電流一般不穩(wěn)定,所以為了抑制電流,一般使用電阻層,如圖4-5所示。在發(fā)射體和陰極之間插人串聯(lián)電阻,當發(fā)射電流大時,電阻使電壓降增大,使得作用在圓錐與柵極間的有效電壓減小,抑制了發(fā)射電流。發(fā)射電流變小時,抑制效果則變弱。由于插人了電阻層,突發(fā)性的電流增大受到抑制,電流變小就可以防止發(fā)射體破壞。如果沒有自動反饋控制,場發(fā)射陰極很難正常工作。