集成電路所用材料必須“超純”,
發(fā)布時(shí)間:2017/5/6 17:59:54 訪問(wèn)次數(shù):1110
集成電路所用材料必須“超純”,這和工藝環(huán)境要求“超凈”相一致。超純材NANDA8R3N0AZBB5E料是指半導(dǎo)體材料(不包括專門摻入的雜質(zhì)),其他功能性電子材料及工藝消耗品等都必須為高純度材料。
日前,集成電路I藝用半導(dǎo)體硅、鍺材料的純度已達(dá)99.999999999%以~L,即11個(gè)9,記為11N。功能性電子材料(如Al、Au等金屬化材料)、摻雜用氣體、外延氣體等必須是集成電路用高純度材料。工藝材料(如化學(xué)試劑,也是集成電路專用級(jí)高純?cè)噭?雜質(zhì)含量已低于0.1ppb①,而石英杯、石英舟等工藝器皿用的石英材料的雜質(zhì)含量也低于100p凹ρ。集成電路工藝的發(fā)展對(duì)材料純度要求不斷提高,一般來(lái)說(shuō),不同集成電路芯片對(duì)材料純度要求不同,芯片特征尺寸越小,要求材料純度也就越高。水也是用量很大的一種工藝材料,既用于硅片、電子材料及工藝器皿的清洗,也用于配制化學(xué)品,在氧化工藝中也可作為硅片氧化的原材料。芯片工藝用水必須是超純水,在微電子生產(chǎn)企業(yè)都有超純水生產(chǎn)車間,水質(zhì)的好壞直接影響到芯片質(zhì)量,水質(zhì)不達(dá)標(biāo)可能導(dǎo)致不能生產(chǎn)出合格的產(chǎn)品。微電子工業(yè)用超純水一般用電阻率來(lái)表征水的純度,超大規(guī)模集成電路用超純水的電阻率在18MΩ・cm以上,普通大功率晶體管超純水的電阻率一般在10MΩ・cm以上。
集成電路所用材料必須“超純”,這和工藝環(huán)境要求“超凈”相一致。超純材NANDA8R3N0AZBB5E料是指半導(dǎo)體材料(不包括專門摻入的雜質(zhì)),其他功能性電子材料及工藝消耗品等都必須為高純度材料。
日前,集成電路I藝用半導(dǎo)體硅、鍺材料的純度已達(dá)99.999999999%以~L,即11個(gè)9,記為11N。功能性電子材料(如Al、Au等金屬化材料)、摻雜用氣體、外延氣體等必須是集成電路用高純度材料。工藝材料(如化學(xué)試劑,也是集成電路專用級(jí)高純?cè)噭?雜質(zhì)含量已低于0.1ppb①,而石英杯、石英舟等工藝器皿用的石英材料的雜質(zhì)含量也低于100p凹ρ。集成電路工藝的發(fā)展對(duì)材料純度要求不斷提高,一般來(lái)說(shuō),不同集成電路芯片對(duì)材料純度要求不同,芯片特征尺寸越小,要求材料純度也就越高。水也是用量很大的一種工藝材料,既用于硅片、電子材料及工藝器皿的清洗,也用于配制化學(xué)品,在氧化工藝中也可作為硅片氧化的原材料。芯片工藝用水必須是超純水,在微電子生產(chǎn)企業(yè)都有超純水生產(chǎn)車間,水質(zhì)的好壞直接影響到芯片質(zhì)量,水質(zhì)不達(dá)標(biāo)可能導(dǎo)致不能生產(chǎn)出合格的產(chǎn)品。微電子工業(yè)用超純水一般用電阻率來(lái)表征水的純度,超大規(guī)模集成電路用超純水的電阻率在18MΩ・cm以上,普通大功率晶體管超純水的電阻率一般在10MΩ・cm以上。
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