到達角是指反應劑能夠從各方向到達表面的某一點,這全部方向角就是該點的到達角。 ON9658給出了幾個關(guān)鍵點的二維空間的到達角,A點是180°,B點是270°,C點是90°。至刂達角越大,能夠到達該點的反應劑分子(或原子團)數(shù)量就越多,該點淀積的薄膜就越厚。圖75(bl非保形覆蓋中的B點淀積的薄膜就比C點厚,這兩點二維空間的到達角之比為3:1。

   邊界層厚度主要受氣體壓力和氣流狀態(tài)(或流速)等因素影響。常壓淀積,在氣體為層流狀態(tài)時,同一襯底表面的孔洞或溝槽內(nèi)部氣體邊界層比平坦部位要厚,深寬比越大的孔洞或溝槽內(nèi)部的邊界層就越厚。而氣體分子常壓時的平均自由程很小(約為10δcm),分子之間的相互碰撞使得它們的速度矢量完全隨機化。所以,在孔洞或溝槽內(nèi)部,特別是底部角落位置的表面反應劑氣體濃度較低,該點淀積的薄膜就薄,如圖⒎5(b)非保形覆蓋中的C點。

    低壓淀積,氣體仍為層流狀態(tài),邊界層比常壓時要厚,而當反應器內(nèi)真空度足夠高,反應劑原子或分子的平均自由程與孔洞或溝槽的深度相當時,反應劑可以直接穿越邊界層人射到孔洞或溝槽底,這時影響表面反應劑濃度的除了與同一襯底不同位置的到達角有關(guān)外,還與遮蔽效應有關(guān)。由于氣體分子自由程較長,分子之間碰撞概率降低,使得氣體分子的速度矢量不再隨機化,而遮蔽效應(s腕do- 誦ng)指的就是襯底表面上的圖形對反應劑氣體分子直線運動的阻擋作用。如圖75(b)非保形覆蓋中的D點,由于遮蔽效應能直接人射到D點的入射角為汐,遠小于平面部位(如A點的入射角是180°)。深寬比越大,孔洞或溝槽內(nèi)部D點的人射角汐越小,遮蔽效應就越嚴重。