附著性要好,是指所淀積的金屬薄膜與襯底硅片表面的氧化層等應(yīng)具有良好的附著性。在前面M34250M2-086FP章節(jié)中介紹了改善金屬黏附性的方法。另外,金屬氧化物的生成熱比氧化硅的生成熱更高,化學(xué)活性高的金屬會將氧化硅還原,在界面處形成強化學(xué)鍵,金屬膜與襯底之間就產(chǎn)生了很強的附著力。顯然,提高淀積過程中的襯底溫度,有助于這一還原反應(yīng),即有利于提高金屬膜與襯底附著性。如鋁與二氧化硅接觸界面在較高溫度有化學(xué)反應(yīng):這一反應(yīng)使兩者結(jié)合得非常牢固。鋁作為金屬布線的優(yōu)點主要有:導(dǎo)電性好,PolrSi能形成歐姆接觸,光刻性好,黏附性好,易淀積、刻蝕,鋁表面有致密穩(wěn)定的氧化鋁。缺點主要有:抗電遷移性差,有尖楔現(xiàn)象,臺階覆蓋性較差,耐腐蝕、穩(wěn)定性較差等。相應(yīng)的工藝主要采用:EB蒸鍍,磁控濺射,退火來提高黏附性和減小與⒏的接觸電阻。

   臺階覆蓋性好,是指如果襯底硅片表面存在臺階,在淀積金屬薄膜時會在臺階的陰面和陽面間產(chǎn)生很大的淀積速率差,甚至在陰面角落根本無法得到金屬的淀積。這樣會造成金屬布線在臺階處開路或無法通過較大的電流。在前面章節(jié)已介紹了改善臺階覆蓋性能的△藝方法。當(dāng)然,用等平面工藝可以從根本上解決臺階覆蓋問題。

   其他工藝特性,如刻蝕特性、可焊性等。在其他章節(jié)都有介紹,總之鋁膜布線的工藝特性良好,這也是它能被普遍采用的主要原因之一。