對于化學放大的光刻膠,每一個光化學反應生成的光酸分子會以生成點為圓心,SC100722MVZ66擴散長度為半徑的范圍內進行去保護催化反應。一般來講,對于193nm光刻膠,擴散長度在5~30nm范圍內,擴散長度越長,在像對比度不變的情況下,圖形粗糙程度越好。不過,在分辨極限附近,如45nm半節(jié)距附近,擴散長度的增加會導致空間像對比度的下降E25],而空間像對比度的下降也會導致圖形粗糙程度的增加光刻膠的顯影溶解率隨光強的變化一般有著從很低的水平到很高的水平的階躍式變化。如果這個階躍式變化比較陡峭,會縮小所謂的“部分顯影”區(qū)域,也就是階躍變化中間的過渡區(qū)域,從而降低圖形粗糙程度。當然,顯影對比度(dissolution∞ntrast)太大,也會影響對焦深度。對于一些248nm和365nm的光刻膠,稍小的顯影對比度一定程度上可以延伸對焦深度,如圖7,36所示。