在空氣中,最大的數(shù)值孔徑為1.0.分辨率NA=1.o就是極限。早在19世紀(jì)末,人們OA1530-32-NOUT就發(fā)現(xiàn),如果在顯微鏡物鏡與生物樣品的蓋玻片上滴上一層油,顯微鏡的分辨率和對比度會大幅提高,其原理如圖7。108所示。浸沒式鏡頭由于同樣品之閘沒有經(jīng)過空氣,它能夠以更大的角度在光刻膠中成像,也就等效于更大的數(shù)值孔徑。

   非浸沒式光刻屮 在光刻膠中   浸沒式光刻中,住光刻膠中光

光線最大的、高為093(248和193都有)   前最高為I35圖7108 浸沒式光刻能夠以更大的角度在光刻膠中成像 實(shí)踐證明,水浸沒式光刻機(jī)可以比非浸沒式的光刻機(jī)提高狃%的焦深(在193nm時(shí)水的折射率為1.44)或者狃%的分辨率。如一臺193nm的光刻機(jī)在0.93NA的情況下能做到的最小技術(shù)節(jié)點(diǎn)是55nm,但是一臺193nm的浸沒式光刻機(jī)在1.35NA的情況下可以做到32nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)。

   不過,浸沒式光刻也遇到一系列技術(shù)挑戰(zhàn),如缺陷,光刻膠表面光酸的浸析(leaching),換句話講光酸會受到浸沒式水的分子力而被從光刻膠中拉出來,一方面造成不完整顯影的缺陷,另一方面造成鏡頭表面的腐蝕。又如由于水在硅片表面的蒸發(fā),影響硅片的套刻精度。不過,這些問題都已經(jīng)得到較好的解決,現(xiàn)在由于浸沒式造成的缺陷已經(jīng)降到10~⒛顆/硅片。甚至有些好的光刻機(jī),缺陷率降到5顆/硅片。不過,在浸沒式光刻中,偏振照明已經(jīng)變得不可或缺。用得最多的是ⅪY照明條件和單一Y或者X方向的偏振態(tài)。