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掩膜版輸運分系統(tǒng)

發(fā)布時間:2017/10/29 14:00:44 訪問次數(shù):497

   掩膜版輸運分系統(tǒng)的主要功能是對掩膜版進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)、表面缺陷、沾污進(jìn)行掃描和報警以及將掩膜版輸送到掩膜版移動平臺上。

   系統(tǒng)測量與校正分系統(tǒng) V8A525-1A2

   系統(tǒng)的校正與測量分系統(tǒng)主要對系統(tǒng)的套刻、平臺移動精度、鏡頭的像差、照明光在光瞳的分布、光源中激光的波長、帶寬以及光束的幾何位置進(jìn)行測量和校正。

   由于硅片平臺是一個具有6個自由度的剛體,具有X、Y、z、Rx、RY、Rz六個參量。對平臺的移動精度的測量與校正需要使用到多束激光和平臺側(cè)面的平面鏡。每一個白由度需要至少兩束激光。例如,沿X方向的兩束激光不但可以測量X的位移,還可以測量圍繞Z軸的轉(zhuǎn)動Rz。

   同樣道理,如果在圖7.71所示的X方向上再加人一柬激光,沿X方向的兩束激光可以同時測量X方向的位移和沿z方向的轉(zhuǎn)動。我們還可以測量沿著Y軸的傾角RY,如圖7.72所示,在X方向L加入一束激光,可以測量沿著Y軸的傾角。

   圖7.71 光刻機中硅片平臺的控制原理示意圖  圖7,72 光刻機中硅片平臺的控制原理示意圖同樣,在y方向上使用至少二束激光也可以測量y和Rx,所以,在X和Y方向加起來需要至少5束激光就可以得到除了z之外的X、Y、Rx、RY、Rz,再加上一束測量z的激光束,硅片平臺的六個位置分量便可以全部測量到。當(dāng)然,具體的光刻機會使用更加多的激光束,用以更加精確的測量。

     

   掩膜版輸運分系統(tǒng)的主要功能是對掩膜版進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)、表面缺陷、沾污進(jìn)行掃描和報警以及將掩膜版輸送到掩膜版移動平臺上。

   系統(tǒng)測量與校正分系統(tǒng) V8A525-1A2

   系統(tǒng)的校正與測量分系統(tǒng)主要對系統(tǒng)的套刻、平臺移動精度、鏡頭的像差、照明光在光瞳的分布、光源中激光的波長、帶寬以及光束的幾何位置進(jìn)行測量和校正。

   由于硅片平臺是一個具有6個自由度的剛體,具有X、Y、z、Rx、RY、Rz六個參量。對平臺的移動精度的測量與校正需要使用到多束激光和平臺側(cè)面的平面鏡。每一個白由度需要至少兩束激光。例如,沿X方向的兩束激光不但可以測量X的位移,還可以測量圍繞Z軸的轉(zhuǎn)動Rz。

   同樣道理,如果在圖7.71所示的X方向上再加人一柬激光,沿X方向的兩束激光可以同時測量X方向的位移和沿z方向的轉(zhuǎn)動。我們還可以測量沿著Y軸的傾角RY,如圖7.72所示,在X方向L加入一束激光,可以測量沿著Y軸的傾角。

   圖7.71 光刻機中硅片平臺的控制原理示意圖  圖7,72 光刻機中硅片平臺的控制原理示意圖同樣,在y方向上使用至少二束激光也可以測量y和Rx,所以,在X和Y方向加起來需要至少5束激光就可以得到除了z之外的X、Y、Rx、RY、Rz,再加上一束測量z的激光束,硅片平臺的六個位置分量便可以全部測量到。當(dāng)然,具體的光刻機會使用更加多的激光束,用以更加精確的測量。

     

相關(guān)技術(shù)資料
10-29掩膜版輸運分系統(tǒng)
相關(guān)IC型號
V8A525-1A2
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