光學(xué)像差及其對(duì)光刻工藝窗口的影響
發(fā)布時(shí)間:2017/10/30 21:14:29 訪問次數(shù):604
光學(xué)像差及其對(duì)光刻工藝窗口的影響
像差是指各種空間像同理想之間的偏差,如圖7.73所示,實(shí)際波面和理想波面(球面)的偏差。U2321B澤尼克(Zernike,1953年諾貝爾獎(jiǎng)獲得者)通過使用一組多項(xiàng)式,來描述各種像差(叉叫做澤尼克多項(xiàng)式),如表7.5所示。
圖7.73 像差示意圖
光學(xué)像差及其對(duì)光刻工藝窗口的影響
像差是指各種空間像同理想之間的偏差,如圖7.73所示,實(shí)際波面和理想波面(球面)的偏差。U2321B澤尼克(Zernike,1953年諾貝爾獎(jiǎng)獲得者)通過使用一組多項(xiàng)式,來描述各種像差(叉叫做澤尼克多項(xiàng)式),如表7.5所示。
圖7.73 像差示意圖
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