污染和溫度控制分系統(tǒng)主要是控制鏡頭內(nèi)部的沾污和溫度。鏡頭的潔凈度和溫度都是由氣體凈化系統(tǒng)控制的. U2321B氣體凈化系統(tǒng)中的氣體起到熱交換的作用。鏡頭在曝光時會被紫外激光不時地加熱,而鏡頭的冷卻是由包裹在鏡頭外殼上的水管完成的,外殼與鏡片之間的熱交換靠鏡頭內(nèi)的沽凈氣體。一般,這種熱平衡需要長達幾個小時才能夠達到。而鏡頭被加熱(lcns lleating)會影響到線寬、套刻。在193nm光刻機,這種鏡頭被加熱會造成焦距偏移(可達100nm),套刻非線性(如曝光區(qū)域內(nèi)二階D?、=階D^畸變)偏移(可達10~20nm)。

   在隹產(chǎn)中,人們不可能等待幾個小時以求得鏡頭達到熱平衡。再者,這種鏡頭被加熱會隨著硅片曝光的硅片數(shù)量改變,慢慢地達到某種穩(wěn)定狀態(tài)(鏡頭的冷卻作用抵消了鏡頭的加熱作用的平衡點)。為此,工業(yè)界使用模型來模擬鏡頭被加熱所產(chǎn)生的對光刻機參數(shù)的影響。而且,鏡頭被加熱的現(xiàn)象會隨著照明條件的不同而具有不同的特征。這是因為,不同的照明條件的光在光瞳的分布不同,會對鏡頭的不同區(qū)域進行加熱,因而產(chǎn)生不同的鏡頭加熱效應。阿斯麥公司的光刻機能夠針對不同的層次建立不同的定標子程序(su卜recipc)來精確地補償鏡頭加熱所產(chǎn)生的光刻機工藝參數(shù)的變化。補償使用鏡頭內(nèi)部可移動的鏡片,并通過鏡頭模型的計算來實現(xiàn)。