光刻膠一般由以下幾大組成成分構(gòu)成:主聚合物主干(backbone polymer)、光敏感UC2813D-3成分(Photoactive Compound,PAC)、刻蝕阻擋基團(tuán)(etching resistant gr°up)、保護(hù)基團(tuán)(protectiYlg group)、溶劑(solvent)等。i線光刻膠主要成分是酚醛樹脂(novolak)和二氮萘醌(diazonaphtl△oquinone,DNQ)的混合物。二氮萘醌的作用是阻止酚醛樹脂溶解于堿性的顯影液,二氮萘醌受到曝光之后會(huì)變成一種羧酸←C(X)H),叫indenecarb°xylic acid,這種羧酸的存在會(huì)加快酚醛樹脂在堿性顯影液中的溶解。二氮萘醌的光化學(xué)反應(yīng)結(jié)構(gòu)式如圖7,80所示。

   圖7.80 酚醛樹脂-二氮萘醌光刻膠中的二氮萘醌的光化學(xué)反應(yīng)結(jié)構(gòu)式示意圖