掩膜版數(shù)據(jù)有以下集中格式:具有等級(jí)分別(hierarchical)的GDSII,最早由美國(guó)通用電氣的Calma部門(mén)開(kāi)發(fā),現(xiàn)在法律歸屬權(quán)由Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司所有。UC2853D在掩膜版掃描曝光機(jī)上, UC2853D的使用不方便,機(jī)器希望連續(xù)和“平坦”的數(shù)據(jù)流。()DSII具有等級(jí)分別,重復(fù)的數(shù)據(jù)在存儲(chǔ)上只有一個(gè)非重復(fù)的單元,雖然節(jié)省空間,但是對(duì)于掩膜版光刻機(jī)來(lái)講需要增加幾何和邏輯計(jì)算時(shí)閘。所以,等級(jí)分別必須去掉。不僅如此.設(shè)計(jì)圖樣當(dāng)中的任意大小多邊形(pol蹭ons)也必須分解為一些原始的圖形・如長(zhǎng)方形和工角形。最終,將平坦化的掩膜版數(shù)據(jù)再分解為光刻頭的分區(qū)的數(shù)據(jù)流,叫做“分解”(fracturing)。

   電子束曝光的優(yōu)點(diǎn)是分辨率較高,當(dāng)前先進(jìn)的曝光機(jī)使用的電壓為50kV。但是,由于高能電子在掩膜版上的散射,會(huì)再次將掩膜版表面的光刻膠曝光。造成所謂的鄰近效應(yīng)(proximity effecO。在有鄰近效應(yīng)的掩膜版光刻I藝當(dāng)中,會(huì)出現(xiàn)如圖7,86所示的現(xiàn)象。解決鄰近效應(yīng)的方法有很多,如使用補(bǔ)償曝光方式,在有鄰近效應(yīng)的地方對(duì)曝光進(jìn)行補(bǔ)償。

圖7,86 掩膜版鄰近效應(yīng)在硅片上的曝光圖形示意圖