圖7.106和圖7.107分別顯示了另外兩種二重圖形技術:膠凝固技術和側(cè)墻層技術各有利弊。 O4FMNBMTTNATFT它們的優(yōu)缺點如表7,7所示。而且,對于膠凝同技術,次顯影之后,底部抗反射層已經(jīng)經(jīng)歷過一次強堿顯影液的“洗禮”(浸泡),它的酸變化,以至于會影響第二次光刻的光刻膠形貌。如果底部抗反射層的酸性變?nèi)?次光刻的光刻膠形成底部站腳(footing)的問題。

   目前能夠?qū)崿F(xiàn)的線寬均勻性由表7.8顯示�？梢钥闯�,阿斯麥公司生產(chǎn)的NXT1950i系列光刻機已經(jīng)能夠基本滿足二重圖形技術的要求。