聚焦離子束(RIE),特別是現(xiàn)代IC失效分析實(shí)驗(yàn)審必備的雙束FIB,因其具有定點(diǎn)切割和同步掃描電鏡觀察,金屬、介質(zhì)沉積功能和增強(qiáng)刻蝕功能,TLC1543CN廣泛用于透射電鏡樣品制備,在線缺陷觀察,線路修補(bǔ)和光刻修補(bǔ),反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(ItIE)用T去鈍化層和l介質(zhì)層以實(shí)現(xiàn)多法金屬化布線結(jié)構(gòu)j小片的可觀察性和。測性。

   反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)是等離子體刻蝕技術(shù)和濺射劃蝕技術(shù)昀合喊・同時(shí)具有材料的選擇性和方向性。反應(yīng)離子刻蝕是在一定反「/腔室巾進(jìn)衍的.I艾丨i∶離子刻濁的反RⅠ室r作壓強(qiáng)較小約1Ombar,用于增加等離子體的平均白由程和加強(qiáng)刻蝕的方向性:當(dāng)腔室壓力達(dá)到設(shè)定壓力時(shí),向反應(yīng)腔室注反應(yīng)氣體.有足夠的射頻功率(RIE的射頻頻率為13.56MHz.用以產(chǎn)生強(qiáng)大的電場)作用在上下電極之間・反應(yīng)腔室形成等離子體。等離子體包括了白由基、帶電離子和電子。由于電場力的作用,在腔室的下電極和上電極之間形成了負(fù)電勢差,這時(shí)白由基打到樣品表面就產(chǎn)生腐蝕過程,而帶電離子打到樣品表面就產(chǎn)rL轟擊作用,這樣就大大加快了刻蝕的速率。