X射線光刻機(jī)使用的是X射線，波長(zhǎng)介于0.01nm到10nm之間，比EUV極紫外光還要短，因此光刻分辨率要高很多。關(guān)于ASML指責(zé)中國(guó)企業(yè)東方晶源侵權(quán)一事就迅速成為熱點(diǎn)，目前的進(jìn)展，還是停留在東方晶源的回復(fù)上，其表示報(bào)道與事實(shí)不符，東方晶源有自主的知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

EUV光刻機(jī)的發(fā)展路線圖,其EUV光刻機(jī)的下一個(gè)重大技術(shù)變革,將會(huì)是高數(shù)值孔徑系統(tǒng)。

高數(shù)值孔徑系統(tǒng)，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是光刻機(jī)的光學(xué)鏡頭部分，而增大鏡頭的數(shù)值孔徑，可以確保光刻機(jī)制造更先進(jìn)的芯片。或許這樣的信息對(duì)大家來(lái)說(shuō)沒(méi)有什么其他感覺(jué)，但其實(shí)很不尋常，其實(shí)該消息的出現(xiàn)，就意味著ASML又回到了30年前的狀態(tài)。

L2+行泊一體芯片解決方案，采用先進(jìn)工藝，最大算力16Tops，單顆SOC實(shí)現(xiàn)行泊一體功能，并可采用自然散熱，推動(dòng)自動(dòng)駕駛系統(tǒng)向8-10萬(wàn)元的入門(mén)級(jí)車(chē)型覆蓋，重新定義入門(mén)級(jí)自動(dòng)駕駛解決方案。

從車(chē)企的角度，希望車(chē)企可以給國(guó)內(nèi)的芯片公司更多的機(jī)會(huì)，通過(guò)聯(lián)合開(kāi)發(fā)項(xiàng)目，牽引國(guó)產(chǎn)的SOC成為更符合車(chē)企需求的SOC，更多使用國(guó)產(chǎn)化芯片提升供應(yīng)鏈安全性。此外，支持引導(dǎo)生態(tài)打造，鼓勵(lì)國(guó)內(nèi)芯片企業(yè)、算法公司、Tier 1等企業(yè)的強(qiáng)強(qiáng)合作。

提及中國(guó)的芯片巨頭，或許不少?lài)?guó)人率先想到公司會(huì)是華為。華為海思在芯片行業(yè)取得的一系列可觀成績(jī)，為中國(guó)芯片的國(guó)產(chǎn)化添磚加瓦。

液壓缸I6水平運(yùn)動(dòng)液壓缸Ⅱ垂直運(yùn)動(dòng),多缸順序?qū)Ｓ勉姶惨簤合到y(tǒng).

但是從反方向來(lái)說(shuō)，選擇X射線光刻機(jī)路線也面臨著非常大的難度，首先就是產(chǎn)業(yè)鏈問(wèn)題.高達(dá)10萬(wàn)個(gè)零件背后所牽扯到的是包括光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭系統(tǒng)、雙工件臺(tái)系統(tǒng)等等全球多家頂級(jí)科技企業(yè)的結(jié)晶。