首先，在library manager 中打開inv 這個(gè)cell 的layout view。即打開了virtuoso editing 窗口，如圖2-2-1 所示。

版圖視窗打開后，掩模版圖窗口顯現(xiàn)。視窗由三部分組成：icon menu , menu banner , statusbanner.
icon menu (圖標(biāo)菜單)缺省時(shí)位于版圖圖框的左邊，列出了一些最常用的命令的圖標(biāo),要查看圖標(biāo)所代表的指令，只需要將鼠標(biāo)滑動(dòng)到想要查看的圖標(biāo)上，圖標(biāo)下方即會(huì)顯示出相應(yīng)的指令。
menu banner（菜單欄）,包含了編輯版圖所需要的各項(xiàng)指令，并按相應(yīng)的類別分組。幾個(gè)常用的指令及相應(yīng)的快捷鍵列舉如下：
zoom in -------放大 (z) zoom out by 2------- 縮小2 倍(z)
save ------- 保存編輯(f2) delete ------- 刪除編輯(del)
undo ------- 取消編輯(u) redo -------恢復(fù)編輯 (u)
move ------- 移動(dòng)(m) stretch ------- 伸縮(s)
rectangle -------編輯矩形圖形(r) polygon ------- 編輯多邊形圖形(p)
path ------- 編輯布線路徑(p) copy -------復(fù)制編輯 (c)
status banner（狀態(tài)顯示欄），位于menu banner 的上方，顯示的是坐標(biāo)、當(dāng)前編輯指令等狀態(tài)信息。
在版圖視窗外的左側(cè)還有一個(gè)層選擇窗口（layer and selection window lsw）。
lsw 視圖的功能：
1） 可選擇所編輯圖形所在的層；
2） 可選擇哪些層可供編輯；
3） 可選擇哪些層可以看到。
由于我們所需的部分版圖層次在初始lsw 中并不存在，因此下一步要做的是：建立我們
自己的工藝庫所需的版圖層次及其顯示屬性。為了簡(jiǎn)單起見，以下僅列出繪制我們這個(gè)版圖
所需的最少版圖層次。
層次名稱 說明
nwell n阱
active 有源區(qū)
pselect p型注入掩膜
nselect n型注入掩膜
contact 引線孔，連接金屬與多晶硅/有源區(qū)
metal1 第一層金屬，用于水平布線，如電源和地
via 通孔，連接metal1 和metal2
metal2 第二層金屬，用于垂直布線，如信號(hào)源的i/o 口
text 標(biāo)簽
poly 多晶硅，做mos 的柵
下圖是修改后的lsw。

圖2-2-2 lsw
如何來修改lsw 中的層次呢？以下就是步驟：
1． 切換至ciw 窗口，在technology file 的下拉菜單中選擇最后一項(xiàng)edit layers 出現(xiàn)如圖窗
口

圖2-2-3 edit layers
2． 在technology library 中選擇庫mylib，先使用delete 功能去除不需要的層次。然后點(diǎn)擊
add 添加必需的層次，add 打開如下圖的窗口：

圖2-2-4
其中，layer name 中填入所需添加的層的名稱。abbv 是層次名稱縮寫。number 是系統(tǒng)給層
次的內(nèi)部編號(hào)，系統(tǒng)保留128－256 的數(shù)字作為其默認(rèn)層次的編號(hào)而將1－127 留給開發(fā)者創(chuàng)
造新層次。purpose 是所添加層次的功用，如果是繪圖層次，一般選擇drawing。priority 是
層次在lsw 中的排序位置。其余的選項(xiàng)一般保持默認(rèn)值。在右邊是圖層的顯示屬性。可以
直接套用其中某些層次的顯示屬性。也可以點(diǎn)擊edit resources 自己編輯顯示屬性。如圖2-2-5
所示（這個(gè)窗口還可以在lsw 中調(diào)出） 編輯方法很簡(jiǎn)單，讀者可以自己推敲，就不再贅
述。上述工作完畢后就得到我們所需的層次。接著我們就可以開始繪制版圖了。