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磷硅酸鹽玻璃鈍化(PSG)

發(fā)布時(shí)間:2012/4/27 19:15:32 訪問(wèn)次數(shù):2900

    P2 05、Si02混合體、五價(jià)磷代替PL2305H四價(jià)硅原子位置,多余一個(gè)電子(艿一),它可俘獲一個(gè)Na+離子,故PSG把Na+離子固定在S102之中,使之不可移動(dòng)。PSG吸收Na+使其含Na+濃度比Si02中Na+大103倍,Na+要通過(guò)等厚的PSG時(shí)間比Si02長(zhǎng)8倍,可見PSG有阻擋Na+進(jìn)入Si02的屏蔽作用。實(shí)驗(yàn)表明:3DA308高頻功率管,使用PSG鈍化之后,原先^FE(小電流)隨£下降,擊穿電壓蠕變現(xiàn)象消除(見表4.2)。

            
    PSG中含有微小導(dǎo)電晶粒,在電場(chǎng)作用下,晶粒和玻璃之間的界面極化會(huì)削弱外電場(chǎng),使器件特性變化。此外,PSG吸水性強(qiáng),水介后生成偏磷酸,會(huì)腐蝕Al條。
    克服極化效應(yīng)的措施主要有:
    ①控制PSG與S102的厚度比為1:5。
    ②控制PSG中磷含量為l02 cm-3,鈍化效果最佳。
    ③由硅烷、磷烷和氧氣合成,在400℃進(jìn)行CVD、PSG中磷的重量比為2%時(shí),鈍化效果最好。
    無(wú)鈉S102的制備
    ①硅片脫脂處理。
    ②腐蝕硅片表面機(jī)械損傷層。
    ③氧化層:雙壁高純石英管,由液氧供氧氣,氧氣中水含量< lppm、氧化1000℃、干氧氣氛、S102:500A(Qm一3×loio cm-3)。
    ④Al蒸發(fā):真空1×10_7托,電子束鋁源純度5個(gè)O以上。
    ⑤封帽:控制濕度、干氧氣氛,也可用Pt、T102、2n2 03等把石英管包起來(lái)。

    P2 05、Si02混合體、五價(jià)磷代替PL2305H四價(jià)硅原子位置,多余一個(gè)電子(艿一),它可俘獲一個(gè)Na+離子,故PSG把Na+離子固定在S102之中,使之不可移動(dòng)。PSG吸收Na+使其含Na+濃度比Si02中Na+大103倍,Na+要通過(guò)等厚的PSG時(shí)間比Si02長(zhǎng)8倍,可見PSG有阻擋Na+進(jìn)入Si02的屏蔽作用。實(shí)驗(yàn)表明:3DA308高頻功率管,使用PSG鈍化之后,原先^FE(小電流)隨£下降,擊穿電壓蠕變現(xiàn)象消除(見表4.2)。

            
    PSG中含有微小導(dǎo)電晶粒,在電場(chǎng)作用下,晶粒和玻璃之間的界面極化會(huì)削弱外電場(chǎng),使器件特性變化。此外,PSG吸水性強(qiáng),水介后生成偏磷酸,會(huì)腐蝕Al條。
    克服極化效應(yīng)的措施主要有:
    ①控制PSG與S102的厚度比為1:5。
    ②控制PSG中磷含量為l02 cm-3,鈍化效果最佳。
    ③由硅烷、磷烷和氧氣合成,在400℃進(jìn)行CVD、PSG中磷的重量比為2%時(shí),鈍化效果最好。
    無(wú)鈉S102的制備
    ①硅片脫脂處理。
    ②腐蝕硅片表面機(jī)械損傷層。
    ③氧化層:雙壁高純石英管,由液氧供氧氣,氧氣中水含量< lppm、氧化1000℃、干氧氣氛、S102:500A(Qm一3×loio cm-3)。
    ④Al蒸發(fā):真空1×10_7托,電子束鋁源純度5個(gè)O以上。
    ⑤封帽:控制濕度、干氧氣氛,也可用Pt、T102、2n2 03等把石英管包起來(lái)。

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