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合金膜

發(fā)布時(shí)間:2012/4/27 19:31:14 訪問次數(shù):533

    采用Al-Cu(4%)合金膜,175℃,J=4×l06 A.cni-2時(shí),其MTF是UC3845純鋁70倍。原理是因?yàn)镃u超過固溶度時(shí),Cu原子以CuCl:形成在晶界處沉積,或占據(jù)晶界空位,阻塞了Al離子沿晶界遷徙,從而提高了MTF。

          
    Al-Cu-Si(含Cu 2%,Si l%)合金膜不僅具有Al~Cu,Al-Si合金膜各自的優(yōu)點(diǎn),而且由于兩種溶質(zhì)原子(Cu與Si)的相互作用,在晶界處形成穩(wěn)定合作物,相抑制在晶界間遷徙,因此它具有更高的抗電遷移能力。表4.6介紹了金屬化條MTF與溫度的關(guān)系,從表4.6可看出,Al-Cu-Si的抗電遷移能力最佳。表4.6金屬億條MTF與溫度的關(guān)系。

    采用Al-Cu(4%)合金膜,175℃,J=4×l06 A.cni-2時(shí),其MTF是UC3845純鋁70倍。原理是因?yàn)镃u超過固溶度時(shí),Cu原子以CuCl:形成在晶界處沉積,或占據(jù)晶界空位,阻塞了Al離子沿晶界遷徙,從而提高了MTF。

          
    Al-Cu-Si(含Cu 2%,Si l%)合金膜不僅具有Al~Cu,Al-Si合金膜各自的優(yōu)點(diǎn),而且由于兩種溶質(zhì)原子(Cu與Si)的相互作用,在晶界處形成穩(wěn)定合作物,相抑制在晶界間遷徙,因此它具有更高的抗電遷移能力。表4.6介紹了金屬化條MTF與溫度的關(guān)系,從表4.6可看出,Al-Cu-Si的抗電遷移能力最佳。表4.6金屬億條MTF與溫度的關(guān)系。

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