更換FET時的高頻特性
發(fā)布時間:2012/5/21 19:48:49 訪問次數(shù):1130
為了分析FET高頻特性劣MSP430F135IPMR化的原因,我們測定同一電路中僅僅更換FET時的頻率特性。
圖3.19是圖3.1電路中用2SK241替換2SK184GR時的高頻特性,這種高頻放大用FET的頻率特性優(yōu)良,截止頻率fch為15. 2MHz,約是2SK184的3倍。
圖3.20是圖3.1電路中采用功率開關(guān)用N溝MOSFET 2SK612 (NEC)時的高頻特性。電壓增益出現(xiàn)了峰值,ch為800kHz處的值降低。但是這是僅僅更換了FET的情況,如果重新設(shè)置工作點,還可以得到改善。
在高頻范圍電壓增益下降的原因,如照片3.8所示主要是由于裝機時裝配不當(dāng),使高頻特性受到影響。
為了改善高頻特性,在實際裝機時布線要短,盡量降低GND的高頻阻抗,并且要采用屏蔽罩。
此外,與使用雙極晶體管時情況相同,米勒現(xiàn)象也會使高頻特性下降。
為了分析FET高頻特性劣MSP430F135IPMR化的原因,我們測定同一電路中僅僅更換FET時的頻率特性。
圖3.19是圖3.1電路中用2SK241替換2SK184GR時的高頻特性,這種高頻放大用FET的頻率特性優(yōu)良,截止頻率fch為15. 2MHz,約是2SK184的3倍。
圖3.20是圖3.1電路中采用功率開關(guān)用N溝MOSFET 2SK612 (NEC)時的高頻特性。電壓增益出現(xiàn)了峰值,ch為800kHz處的值降低。但是這是僅僅更換了FET的情況,如果重新設(shè)置工作點,還可以得到改善。
在高頻范圍電壓增益下降的原因,如照片3.8所示主要是由于裝機時裝配不當(dāng),使高頻特性受到影響。
為了改善高頻特性,在實際裝機時布線要短,盡量降低GND的高頻阻抗,并且要采用屏蔽罩。
此外,與使用雙極晶體管時情況相同,米勒現(xiàn)象也會使高頻特性下降。
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