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水清洗

發(fā)布時間:2012/8/6 19:46:02 訪問次數:1375

    水清洗工藝是以水為清洗C3225X5R1C226M介質的,為了提高清洗效果可在水中添加少量的表面活性劑、洗滌助劑、緩蝕劑等化學物質(一般含量為2%~10%)?舍槍τ≈齐娐钒迳喜煌再|污染的具體情況,在水基清洗劑中加入添加劑,使其清洗的適用范圍更寬。水基清洗劑對水溶性污垢有很好的溶解作用,若配合加熱、刷洗、噴淋噴射、超聲波清洗等物理清洗手段,能取得更好的清洗效果。
    在水基清洗劑中加入表面活性劑可使水的表面張力大大降低,使水基清洗劑的滲透、鋪展能力加強,能更好地滲入到緊密排列的電子元器件之間的縫隙之中,進而將滲入到印制電路板基板內部的污染物清除。利用水的溶解作用與表面活性劑的乳化分散作用,可以將合成活性類助焊劑的殘留物清除,同時不僅可以把各種水溶性的污染物溶解去除,而且能將合成樹脂、脂肪等非可溶性污染物去除。
    對使用松香基助焊劑的電路板進行清洗,可在水基清洗劑中加入遁當的皂化劑。皂化劑是在清洗印制電路板時,用來與松香中的松香酸、油脂中的脂肪酸等有機酸發(fā)生皂化反應,生成可溶于水的脂肪酸鹽(肥皂)的化學物質,是許多用于清洗印制電路板上的助焊劑、油脂的清洗劑中常見的成分。皂化劑通常是顯堿性的無機物,如氫氧化鈉、氫氧化鉀等強堿,也可能是顯堿性的有機物,如單乙醇胺等。在商用皂化劑中一般還含有有機溶劑和表面活性劑成分,以清除不能發(fā)生皂化反應的污染物。由于皂化劑可能對印制電路板上的鋁、鋅等金屬產生腐蝕,特別是在清洗溫度比較高、清洗時間比較長時會使腐蝕加劇,所以在配方中應添加緩蝕劑。但應注意,有對于堿性物質敏感的元器件的印制電路板,不宜使用含皂化劑的水基清洗劑清洗。
    在水清洗的工藝中,如果配合使用超聲波清洗,利用超聲波在清洗液中傳播時產生大量調微小空氣泡的“空穴效應”,則可以有效地將不溶性污染物從電路板上剝除?紤]到印制電路板、電子元器件與超聲波的相容性要求,印制電路板清洗時使用的超聲波頻率一般在40kHz左右。

             
    水清洗工藝流程包括清洗、漂洗、干燥三個工序。首先用濃度為2%~10%的水基清洗劑配合加熱、刷洗、噴淋(噴射)、超聲波清洗等物理清洗手段,對印制電路板進行批量清洗。然后再用純水或離子水進行2~3次漂洗。最后進行熱風干燥。水基清冼需要使用純水進行漂洗是造成水基清洗成本很高的原因。雖然高質量的水質是清洗質量的可靠保證,但在一些情況下,先使用成本較低的電導率為0.05西門子/米(s/m)的去離子水進行漂洗,再使用電導率為0.18西門子/米(s/m)的高純度去離子水再進行一次漂洗,也可以取得很好的清洗效果。典型的水清洗工藝流程如圖3-15所示。一個典型的工藝過程為:在55℃的
溫度下,用水基清洗劑對電路板進行批量清洗,并配合強力噴射清洗5min;然后用55℃的去離子水漂洗15min;最后在60℃溫度下,熱風吹干20min。

    水清洗工藝是以水為清洗C3225X5R1C226M介質的,為了提高清洗效果可在水中添加少量的表面活性劑、洗滌助劑、緩蝕劑等化學物質(一般含量為2%~10%)。可針對印制電路板上不同性質污染的具體情況,在水基清洗劑中加入添加劑,使其清洗的適用范圍更寬。水基清洗劑對水溶性污垢有很好的溶解作用,若配合加熱、刷洗、噴淋噴射、超聲波清洗等物理清洗手段,能取得更好的清洗效果。
    在水基清洗劑中加入表面活性劑可使水的表面張力大大降低,使水基清洗劑的滲透、鋪展能力加強,能更好地滲入到緊密排列的電子元器件之間的縫隙之中,進而將滲入到印制電路板基板內部的污染物清除。利用水的溶解作用與表面活性劑的乳化分散作用,可以將合成活性類助焊劑的殘留物清除,同時不僅可以把各種水溶性的污染物溶解去除,而且能將合成樹脂、脂肪等非可溶性污染物去除。
    對使用松香基助焊劑的電路板進行清洗,可在水基清洗劑中加入遁當的皂化劑。皂化劑是在清洗印制電路板時,用來與松香中的松香酸、油脂中的脂肪酸等有機酸發(fā)生皂化反應,生成可溶于水的脂肪酸鹽(肥皂)的化學物質,是許多用于清洗印制電路板上的助焊劑、油脂的清洗劑中常見的成分。皂化劑通常是顯堿性的無機物,如氫氧化鈉、氫氧化鉀等強堿,也可能是顯堿性的有機物,如單乙醇胺等。在商用皂化劑中一般還含有有機溶劑和表面活性劑成分,以清除不能發(fā)生皂化反應的污染物。由于皂化劑可能對印制電路板上的鋁、鋅等金屬產生腐蝕,特別是在清洗溫度比較高、清洗時間比較長時會使腐蝕加劇,所以在配方中應添加緩蝕劑。但應注意,有對于堿性物質敏感的元器件的印制電路板,不宜使用含皂化劑的水基清洗劑清洗。
    在水清洗的工藝中,如果配合使用超聲波清洗,利用超聲波在清洗液中傳播時產生大量調微小空氣泡的“空穴效應”,則可以有效地將不溶性污染物從電路板上剝除?紤]到印制電路板、電子元器件與超聲波的相容性要求,印制電路板清洗時使用的超聲波頻率一般在40kHz左右。

             
    水清洗工藝流程包括清洗、漂洗、干燥三個工序。首先用濃度為2%~10%的水基清洗劑配合加熱、刷洗、噴淋(噴射)、超聲波清洗等物理清洗手段,對印制電路板進行批量清洗。然后再用純水或離子水進行2~3次漂洗。最后進行熱風干燥。水基清冼需要使用純水進行漂洗是造成水基清洗成本很高的原因。雖然高質量的水質是清洗質量的可靠保證,但在一些情況下,先使用成本較低的電導率為0.05西門子/米(s/m)的去離子水進行漂洗,再使用電導率為0.18西門子/米(s/m)的高純度去離子水再進行一次漂洗,也可以取得很好的清洗效果。典型的水清洗工藝流程如圖3-15所示。一個典型的工藝過程為:在55℃的
溫度下,用水基清洗劑對電路板進行批量清洗,并配合強力噴射清洗5min;然后用55℃的去離子水漂洗15min;最后在60℃溫度下,熱風吹干20min。

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8-6水清洗

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