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當(dāng)前國際先進(jìn)印制電路板及其制造技術(shù)的發(fā)展動向

發(fā)布時間:2014/5/19 18:41:59 訪問次數(shù):444

   PCB制造技術(shù)不僅朝著高密度、多層板方向發(fā)展,還與半導(dǎo)體技術(shù)、SMT緊密結(jié)合,Z02W22V-Z-RTK/P大有打破傳統(tǒng)技術(shù)的勢頭。在某些高密度、高速度領(lǐng)域里,PCB制造、半導(dǎo)體與SMT三者的界限1慢慢模糊,漸漸融合在一起.推動電子制造業(yè)向更先進(jìn)、高可靠、低成本方向發(fā)展。

   1.印制電路板材料的發(fā)展趨勢

   ①使用高性能玻璃布基覆銅板,降低介電常數(shù)5和介質(zhì)損耗tan8。

   ②使用改性環(huán)氧樹脂,提高FR-4玻璃布覆銅箔層壓板材料的Tg溫度。

   ③將CTE相對小的材料或CTE性能相反的材料疊加使用,使SMB整體的CTE減小。

   ④撓性CCL印制電路板的應(yīng)用越來越廣泛。

   ⑤含納米材料的覆銅箔板的開發(fā)。

   2.印制電路板制造技術(shù)的發(fā)展趨勢

   ①PCB制造技術(shù)要適應(yīng)超高密度組裝、高速度要求。例如,倒裝芯片(Filp Chip)要求

導(dǎo)線寬llUm,線距為4ym,焊盤之間走3條線,已超出PCB制造能力,傳統(tǒng)減成法工藝已無法實現(xiàn)。只能采用半加成工藝方法,此方法需要用到濺射設(shè)備。又如CAD-噴繪系統(tǒng)的應(yīng)用,積層多層板制造技術(shù)( BUM)。將來,小于lOUm乃至51im的微孔需要采用等禽子蝕刻鉆孔技術(shù)。

   ②為適應(yīng)復(fù)合組裝化,PCB制造技術(shù)與半導(dǎo)體技術(shù)、SMT組裝技術(shù)緊密結(jié)合。在向PCB中埋置R、C、H、濾波器等元器件的技術(shù)中,如何控制實現(xiàn)極為嚴(yán)格的R、C、H值公差要求,如何檢測、改善材料特性、降低成本等,都是要研究的課題。

   ③要適應(yīng)新功能器件的組裝要求。

   ④要適應(yīng)元鉛焊接耐高溫與PCB焊盤表面鍍層材料無鉛化的要求。

   總之,印制電路板的技術(shù)水平朝高精度、高密度、超薄型多層印制電路板、在基板內(nèi)埋置無源元件、有源器件等新技術(shù)方向發(fā)展。


   PCB制造技術(shù)不僅朝著高密度、多層板方向發(fā)展,還與半導(dǎo)體技術(shù)、SMT緊密結(jié)合,Z02W22V-Z-RTK/P大有打破傳統(tǒng)技術(shù)的勢頭。在某些高密度、高速度領(lǐng)域里,PCB制造、半導(dǎo)體與SMT三者的界限1慢慢模糊,漸漸融合在一起.推動電子制造業(yè)向更先進(jìn)、高可靠、低成本方向發(fā)展。

   1.印制電路板材料的發(fā)展趨勢

   ①使用高性能玻璃布基覆銅板,降低介電常數(shù)5和介質(zhì)損耗tan8。

   ②使用改性環(huán)氧樹脂,提高FR-4玻璃布覆銅箔層壓板材料的Tg溫度。

   ③將CTE相對小的材料或CTE性能相反的材料疊加使用,使SMB整體的CTE減小。

   ④撓性CCL印制電路板的應(yīng)用越來越廣泛。

   ⑤含納米材料的覆銅箔板的開發(fā)。

   2.印制電路板制造技術(shù)的發(fā)展趨勢

   ①PCB制造技術(shù)要適應(yīng)超高密度組裝、高速度要求。例如,倒裝芯片(Filp Chip)要求

導(dǎo)線寬llUm,線距為4ym,焊盤之間走3條線,已超出PCB制造能力,傳統(tǒng)減成法工藝已無法實現(xiàn)。只能采用半加成工藝方法,此方法需要用到濺射設(shè)備。又如CAD-噴繪系統(tǒng)的應(yīng)用,積層多層板制造技術(shù)( BUM)。將來,小于lOUm乃至51im的微孔需要采用等禽子蝕刻鉆孔技術(shù)。

   ②為適應(yīng)復(fù)合組裝化,PCB制造技術(shù)與半導(dǎo)體技術(shù)、SMT組裝技術(shù)緊密結(jié)合。在向PCB中埋置R、C、H、濾波器等元器件的技術(shù)中,如何控制實現(xiàn)極為嚴(yán)格的R、C、H值公差要求,如何檢測、改善材料特性、降低成本等,都是要研究的課題。

   ③要適應(yīng)新功能器件的組裝要求。

   ④要適應(yīng)元鉛焊接耐高溫與PCB焊盤表面鍍層材料無鉛化的要求。

   總之,印制電路板的技術(shù)水平朝高精度、高密度、超薄型多層印制電路板、在基板內(nèi)埋置無源元件、有源器件等新技術(shù)方向發(fā)展。


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