終端和靶室
發(fā)布時間:2015/11/5 18:41:38 訪問次數(shù):648
實際的離子注入發(fā)生在終端的靶室內(nèi)。它包括掃描系統(tǒng)與裝卸片機械裝置。AD7004AR對靶室有幾條很嚴格的要求,晶圓必須裝載到靶室內(nèi)和抽真空,晶圓必須逐一放到固定器上,注入結(jié)束后,晶圓被取下裝入片架盒,從靶室取出。
現(xiàn)在使用的注入晶圓表面的束流方式有批量式和單片式兩種設(shè)計。批量式效率更高,但是對其維護和對準要求更高。對于批量式,晶圓被放置在一個圓盤}:,它可以面對束流轉(zhuǎn)動,使其被掃描。多種運動增加了劑量的均勻性。要加工完一組晶圓,由于增加了裝片、抽真空、注入和卸片的時間,單片式設(shè)計要求更多的時間。為了增加均勻性,也有可能是一個機械裝置推動該盤在離子束前左、右運動。多重運動增加了劑量的均勻性。由于增加了裝片、抽真空、注入和卸載的時間,單晶片的設(shè)計需要更多的時間來處理一組晶圓。,但單一晶圓系統(tǒng)需要傾斜,以避免束流穿過溝道到下面晶面,并避免束流被晶圓I已有結(jié)構(gòu)的凸起形貌遮蔽。
實際的離子注入發(fā)生在終端的靶室內(nèi)。它包括掃描系統(tǒng)與裝卸片機械裝置。AD7004AR對靶室有幾條很嚴格的要求,晶圓必須裝載到靶室內(nèi)和抽真空,晶圓必須逐一放到固定器上,注入結(jié)束后,晶圓被取下裝入片架盒,從靶室取出。
現(xiàn)在使用的注入晶圓表面的束流方式有批量式和單片式兩種設(shè)計。批量式效率更高,但是對其維護和對準要求更高。對于批量式,晶圓被放置在一個圓盤}:,它可以面對束流轉(zhuǎn)動,使其被掃描。多種運動增加了劑量的均勻性。要加工完一組晶圓,由于增加了裝片、抽真空、注入和卸片的時間,單片式設(shè)計要求更多的時間。為了增加均勻性,也有可能是一個機械裝置推動該盤在離子束前左、右運動。多重運動增加了劑量的均勻性。由于增加了裝片、抽真空、注入和卸載的時間,單晶片的設(shè)計需要更多的時間來處理一組晶圓。,但單一晶圓系統(tǒng)需要傾斜,以避免束流穿過溝道到下面晶面,并避免束流被晶圓I已有結(jié)構(gòu)的凸起形貌遮蔽。
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