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電鍍銅

發(fā)布時間:2016/5/29 20:44:45 訪問次數(shù):736

   (1)目的

   把雙面板或多層板的通孔或盲孔在化學HD6433812B30F鍍銅的基礎上,通過整板電鍍或圖形電鍍來實現(xiàn)層間可靠的互連。

   (2)鍍銅槽液的選擇

   考慮分散能力、抗污染、穩(wěn)定性和易操作性,常規(guī)為酸性電鍍銅(鍍液深鍍能力指標:板面銅鍍層厚度廳L內(nèi)銅鍍層厚度)。

   (3)工藝參數(shù)

   溫度、電流密度、攪拌、陽極材料和面積。

   (4)電鍍原理

   鍍銅液的主要成分是Cus%和H2So4,直接電壓作用下,在陰/陽極發(fā)生反應如圖6.8所示。

      

 

   (1)目的

   把雙面板或多層板的通孔或盲孔在化學HD6433812B30F鍍銅的基礎上,通過整板電鍍或圖形電鍍來實現(xiàn)層間可靠的互連。

   (2)鍍銅槽液的選擇

   考慮分散能力、抗污染、穩(wěn)定性和易操作性,常規(guī)為酸性電鍍銅(鍍液深鍍能力指標:板面銅鍍層厚度廳L內(nèi)銅鍍層厚度)。

   (3)工藝參數(shù)

   溫度、電流密度、攪拌、陽極材料和面積。

   (4)電鍍原理

   鍍銅液的主要成分是Cus%和H2So4,直接電壓作用下,在陰/陽極發(fā)生反應如圖6.8所示。

      

 

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5-29電鍍銅

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