晶圓表面金屬離子的去除曾是一個(gè)問(wèn)題
發(fā)布時(shí)間:2016/6/17 20:51:18 訪問(wèn)次數(shù):828
晶圓表面金屬離子的去除曾是一個(gè)問(wèn)題。這些離子存在于化學(xué)品中,并且不溶于大多數(shù)的清洗和刻蝕液中。H12CA4850通過(guò)加入一種整合劑,如乙烯基二胺乙酸,使其與這些離子結(jié)合,從而阻止它們?cè)俅纬练e到晶圓上。
在最初的清洗配方的基礎(chǔ)上,曾有過(guò)多種改進(jìn)和變化。SC-1稀釋液的比例為1∶⒈50(而不是1△∶5),SC―2的稀釋液的比例為1△∶60(而不是1△∶6)。這些溶液被證明具有與比它們更濃的溶液配方同樣的清洗效果。稀釋液減少了化學(xué)品的使用和處理而具有成本優(yōu)勢(shì)。
RCA濕法清洗取得成功的一個(gè)重要原因是超純水和化學(xué)品的可用性。新的清洗方法,如現(xiàn)場(chǎng)化學(xué)品生成,比以前提供了更高級(jí)別的純度,產(chǎn)生了更有效的清洗效應(yīng)。RCA清洗生成大量的化學(xué)蒸氣,為防止化學(xué)蒸氣進(jìn)入凈化間,增加了凈化間排放系統(tǒng)的負(fù)載。溶液的另一個(gè)問(wèn)題是它具有隨時(shí)間推移改變?nèi)芤航M分的效應(yīng)。
晶圓表面金屬離子的去除曾是一個(gè)問(wèn)題。這些離子存在于化學(xué)品中,并且不溶于大多數(shù)的清洗和刻蝕液中。H12CA4850通過(guò)加入一種整合劑,如乙烯基二胺乙酸,使其與這些離子結(jié)合,從而阻止它們?cè)俅纬练e到晶圓上。
在最初的清洗配方的基礎(chǔ)上,曾有過(guò)多種改進(jìn)和變化。SC-1稀釋液的比例為1∶⒈50(而不是1△∶5),SC―2的稀釋液的比例為1△∶60(而不是1△∶6)。這些溶液被證明具有與比它們更濃的溶液配方同樣的清洗效果。稀釋液減少了化學(xué)品的使用和處理而具有成本優(yōu)勢(shì)。
RCA濕法清洗取得成功的一個(gè)重要原因是超純水和化學(xué)品的可用性。新的清洗方法,如現(xiàn)場(chǎng)化學(xué)品生成,比以前提供了更高級(jí)別的純度,產(chǎn)生了更有效的清洗效應(yīng)。RCA清洗生成大量的化學(xué)蒸氣,為防止化學(xué)蒸氣進(jìn)入凈化間,增加了凈化間排放系統(tǒng)的負(fù)載。溶液的另一個(gè)問(wèn)題是它具有隨時(shí)間推移改變?nèi)芤航M分的效應(yīng)。
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