為了降低系統(tǒng)失配,可以采取如下的版圖設(shè)計技術(shù):第一類技術(shù)稱為單元元器件復(fù)制技術(shù),ADS1110A0IDBVT是指匹配的兩個元器件都由某一個元器件單元的多個復(fù)制版本串聯(lián)或并聯(lián)構(gòu)成,這樣可以降低工藝偏差和歐姆接觸電阻不匹配的影響;二類技術(shù)是在元器件周圍增加“冗余”(Dummy)單元,這樣可以保證周圍環(huán)境的一致性;第三類技術(shù)要求匹配元器件之間的距離盡量接近,擺放方向相同;第四類技術(shù)是公用重 心設(shè)計法(Common~Ccntro⒙),是指使匹配元器件的“重心”重合,可以減小線性梯度的影響;第五類技術(shù)要求匹配元器件與其他元器件保持一定距離,這樣可以減小擴散區(qū)之間的相互影響。圖8.19給出了兩個匹配MOS晶體管的版圖。

   (a)晶體管方向不同             (b)源漏極的周圍環(huán)境不同

   (c)增加了冗余單元的晶體管

   圖819 匹配MOs晶體管版圖