1.基板材料―――般采用玻璃 OM6357EL/3C3/5A

   (I)在可見光區(qū)域透明,熱膨脹系數(shù)與積層材料一致。

   (2)能承受EL的退火溫度(5OO~ω0℃)。

   (3)堿金屬離子含量盡量低,確保元件的長期可靠性。

   2.發(fā)光層材料

   (1)薄膜型EL的發(fā)光材料:選擇合適的發(fā)光中心;能承受105V/t・m左右的強(qiáng)電場。

   母體:Zns、CaS、⒌s等半導(dǎo)體材料。

   發(fā)光中心:采用屬于定域能級的元素,除Mn外,還有許多稀土元   素。

   紅色:C￡:Eu,ZnS:Sm,F,附加彩色濾光器的Srs:ce。

   綠色:zllS:%,F。

   藍(lán)色:CaG⒓S:Ce或附加彩色濾光器的⒌S:Ce。

   (2)分散型交流EL發(fā)光層材料:主要采用與薄膜型相同的Z淄,選擇合適的發(fā)光中心。

   發(fā)光層的形成方法有:物理氣相沉積(PⅤD),包括電子束蒸發(fā)(EB)和多源蒸發(fā)(MSD)以及濺射鍍膜等;化學(xué)氣相沉積(CⅤD),包括原子層外延(ALE)有機(jī)金屬氣相沉積(MOCⅤD)和氫化物輸送減壓法(HT―CⅤD)。