氧化鐵版在使用上還有以下優(yōu)點:

   ①在觀察光源波長下是透明的,而在曝光光源波長下是不透明的。由于這 S-24c01BFJ-TB一特性,掩膜對可見光透明而阻擋紫外線通過,囚而允許在光刻時通過掩膜直接觀察片子上的圖形。

   ②具有較低的反射率,在接觸曝光時,由于掩膜與片子之間的多次反射從而降低了鉻掩膜的有效分辨率,由于氧化鐵掩膜的反射率低,與正性膠配合能獲得0.5~1um的條寬。因此制得的氧化鐵掩模板具有較高的分辨率。

   ③氧化鐵版由于是吸收(而不是反射)不需要的光,因而克服了光暈效應,加強了對反射性襯底的對比度,有利于精細線條光刻。

   氧化鐵結(jié)構(gòu)致密且無定型。針孔少。

   ⑤氧化鐵是比較耐磨的掩膜材料。

   ⑥復印腐蝕特性比較好,在一定程度上減少了掩膜缺陷。

   氧化鐵版的制備方法主要有二種:化學氣相沉積(CⅥD法、涂敷法及反應濺射法。目前來看聚乙烯二茂鐵材料制各的氧化鐵彩色版最有前途,它為用C~AI,及數(shù)控電子束掃描進行白動化制版的實現(xiàn)提供了切實可行的途徑。