談到掩模板,就要談到掩模板制造的核心沒(méi)備――――圖形發(fā)生器(P扯tcm Generator)。目前,S29GL032M90FFIS10掩模板制造設(shè)各供應(yīng)商主要有二家:Micronk、Jeol和NuFlare,制作工藝分為激光和電子束兩種圖形描繪方式,兩種方式各有利弊。采用激光描繪圖形的優(yōu)勢(shì)是速度快、效率高,但精度不如電子束掃描方式;而采用電子束描繪圖形,雖然精度高,但描繪速度慢、生產(chǎn)效率低。由于兩種方式的互補(bǔ)性,掩模板制造商會(huì)分別購(gòu)買(mǎi)兩種設(shè)各。當(dāng)制各線寬要求很高的電路圖形時(shí)使用電子束掃描,對(duì)于線寬要求不是很高的電路圖形則使用激光掃描。兩種設(shè)備的交替使用既滿足了精度要求,也大大提高了速度,同時(shí)也大大降低了制造商的投資成本。

   隨著技術(shù)的發(fā)展,這種狀況正在改變。三家掩模板制造設(shè)各供應(yīng)商都對(duì)各自的弱點(diǎn)有了技術(shù)上的改進(jìn)。