“軟刻蝕”是一種相對于微制造領(lǐng)域中占據(jù)主導(dǎo)地位的刻蝕而言的微圖形轉(zhuǎn)移和微制造的新方法。 ICM7555ID總的思路就是把用昂貴設(shè)各生成的微圖形通過中間介質(zhì)進(jìn)行簡便而又精確的復(fù)制,提高微制作的效率。以哈佛大學(xué)White盂des教授研究組為代表的多個研究集體發(fā)展了相關(guān)技術(shù),包括微接觸印刷、毛細(xì)微模塑、溶劑輔助的微模塑、轉(zhuǎn)移微模塑、微模塑、近場光刻蝕等多項(xiàng)內(nèi)容,并正式提出了“軟刻蝕”這樣的名稱。這些方法工藝簡單,對實(shí)驗(yàn)室條件要求不高,叉能在曲面上進(jìn)行操作,甚至可制備三維的立體圖形。

   軟刻蝕一般是通過表面復(fù)制有細(xì)微結(jié)構(gòu)的彈性印模來轉(zhuǎn)移圖形的。其方法有用烷基硫醇“墨水”在金表面印刷,將印模作為模具直接進(jìn)行模塑,或?qū)⒂∧Ｗ鳛楣庋谀みM(jìn)行光刻蝕等,過程簡單、效率高。軟刻蝕不但可在平面L制造圖形,也可以轉(zhuǎn)移圖形到曲面表面,它還可以對圖形表面的化學(xué)性質(zhì)加以控制,方便地產(chǎn)生具有特定功能團(tuán)的圖形表面;軟刻蝕還能復(fù)制三維的圖形,精細(xì)程度達(dá)100nm以下,彌補(bǔ)了光刻蝕方法的不足。

   軟刻蝕技術(shù)的核心是圖形轉(zhuǎn)移元件――彈性印模。制作印模的最佳聚合物是聚二甲基硅氧烷(PDMS)。先用光刻蝕法在基片上刻出精細(xì)圖形,在其上澆鑄PDˇs,固化剝離得到表面復(fù)制微圖形。甚至在凸透鏡的表面模塑出了類似蜻蜓復(fù)眼式的眾多微凸透鏡,也源于PDMS優(yōu)良的彈性。軟刻蝕過程簡單、方法靈活,在微制造方面有很好的應(yīng)用前景。在圖形的精確定位、印刷質(zhì)量方面,目前軟刻蝕還比不上光刻蝕,然而它有許多優(yōu)點(diǎn)是光刻蝕技術(shù)所不具有的,例如,它能在曲面上刻蝕圖形,制作=維微結(jié)構(gòu),方便地控制微接觸印刷表面的化學(xué)物理性質(zhì),制作陶瓷、高分子、微顆粒等微制造材料的微圖形,尤其是它不需復(fù)雜的設(shè)備,可以在普通實(shí)驗(yàn)室條件下進(jìn)行制作。