通常對空間上有延伸的圖形,諸如線或槽和接觸孔,掩膜版誤差因子都等于或大于1。 S2922AIF10-TF因為掩膜版誤差因子的重要性在于它和線寬及掩膜版成本的聯(lián)系,將它限制在較小的范圍變得十分重要。例如,對線寬均勻性要求極高的柵極層,掩膜版誤差因子通常被要求控制在1,5以下(針對90nm及更加寬的工藝)。

   直到最近,取得掩膜版誤差因子的數(shù)據(jù)需要通過數(shù)值仿真或者實驗測量。對數(shù)值仿真,如要達到一定的精確度需要依靠設(shè)定仿真參量的經(jīng)驗。如果需要得到掩膜版誤差因子在整個光刻參量空間的分布信息,使用這類方法需要時間會比較長。其實,對密集線或槽的成像,掩膜版誤差因子在理論上有解析的近似表達式。在空間周期p小于^/NA,而且線同槽的寬度相等的特殊條件下,在環(huán)形照明條件下,解析表達式可以簡化。

   一分別適用于槽、線條。其中,σ為部分相干參數(shù)(0<σ<D,α為透射衰減掩膜版(Attenuatcd Phase Shifting Mask)中的振幅透射率因子(如對6%透射衰減掩膜版,α為o.25),″為光刻膠折射率(通常為1.7~1.之間),夕為在閾值模型情況下的等效光酸擴散長度(根據(jù)不同的技術(shù)節(jié)點,通常從32~45nm節(jié)點的5~10nm到0.18~0,25um節(jié)點的70nm)。