鋁墊刻蝕通常是在LAM2300Versys Metal的腔室內(nèi)進(jìn)行的。標(biāo)準(zhǔn)的鋁刻蝕氣體有BC13和被選擇的聚合物氣體CH1。鋁墊刻蝕由兩步組成:主刻蝕(ME)和過刻蝕(OE)。M01044主刻蝕步驟的時(shí)間由可以探測(cè)鋁信號(hào)的終點(diǎn)模式控制。掃描電子顯微鏡(SEM)被用來監(jiān)視鋁線條和鋁墊側(cè)壁的形狀。圖8.46顯示的是透射率從55%~95%被分成六組的情況,它們的主刻蝕終點(diǎn)(EDP)時(shí)間和腐蝕缺陷的表現(xiàn)來自于同一個(gè)△藝程式�？梢钥闯�,刻蝕終點(diǎn)時(shí)間對(duì)透射率有著很強(qiáng)的線性依賴關(guān)系.透射率越高.相應(yīng)地刻蝕終點(diǎn)時(shí)閘越長(zhǎng),腐蝕缺陷越嚴(yán)重。這可以解釋為有更多的鋁薄膜暴露了出來.要被刻蝕掉.因此需要更長(zhǎng)的刻蝕終點(diǎn),而可用來產(chǎn)生足夠保護(hù)鋁側(cè)壁的聚合物的光刻膠更少.囚此導(dǎo)致更壞的宏觀負(fù)載指標(biāo):眾多的腐蝕缺陷。即使更長(zhǎng)的刻蝕終點(diǎn).也不能提供足夠的聚合物保護(hù)c它還可以看出,透射率低于70%的任何一組.都沒有腐蝕缺陷。圖8.47(a)顯示的是F組從鋁墊側(cè)壁生長(zhǎng)出的腐蝕缺陷。