晶片清洗機(jī)有很多種,按其處理方式大致分為單片旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)(single sprayt∞D(zhuǎn)、W171DIP-25批旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機(jī)(batch spmy tool)、批浸泡式清洗機(jī)(wet bench)。在這些機(jī)臺(tái)使用中,除了化學(xué)處理,去離子水沖洗和干燥也不可小視。因?yàn)榛瘜W(xué)處理之后,晶片上的化學(xué)溶液必須馬上去除,經(jīng)去離子水沖洗和干燥后,干凈的晶片方呵進(jìn)人下一道制程。又由于清洗在制程中步驟較多,如果對(duì)沖洗和干燥管理不當(dāng),有問題的晶片即可變?yōu)橹苯游廴驹�。�?/span>確保沖洗完全,水槽常裝配有在線水阻值測(cè)試儀,直到水阻值到18MΩ・cm為止�？梢娋�片沖洗和干燥是相當(dāng)關(guān)鍵的步驟。以下就不同機(jī)型的特點(diǎn)及沖洗干燥技術(shù)加以介紹。