批浸泡式清洗機(jī)(wet bench)是最早使用并被廣泛普及的,同時它也隨著半導(dǎo)體的發(fā)展得到不斷的提升和完善。有代表性的廠商是DNS/FC系列,SES/BW系列等。 W1N5817清洗機(jī)處理槽分布實(shí)例如表9.5所示。如果制程順序是DHF→DI→sPM→DI→SC1冫DI→IPA,那么晶片從槽1(Tank1)開始,依次經(jīng)過表9,5中的每個槽。這個制程功能為:首先是膜層刻蝕或干刻蝕后氧化硅外殼清除,接著是光阻或灰化殘余物去除,最后是顆粒去除和晶片干燥。更多了解可回顧9.6節(jié)和9,7節(jié)。這里重點(diǎn)講水洗(()F、HQDR)和Marangoni干燥。