GST是一種合金材料,Ge(鍺)、Sb(銻)和Te(碲)分別屬于第四族、第五族和第六族元素,其得失電子的能力各不相同,表現(xiàn)為在氧化劑中的被氧化程度各不相同,Ge(鍺)和Sb(銻)較容易被氧化而形成相應的氧化物,Te(碲)較難被氧化形成氧化物,在研磨中的副產(chǎn)品仍為金屬態(tài)。TB62726AFG

   GST CMP的挑戰(zhàn)主要有以下幾個方面:

   (1）研磨殘留:Tc(碲)較難被氧化形成氧化物,在研磨中的副產(chǎn)物仍為金屬態(tài),它會重新粘回到GST表面形成殘留,導致短路而失效。

   (2)介電層損失:盡管GST CMP的研磨漿料本身對介電層的研磨速率很低((100A/min),但在研磨產(chǎn)牛的副產(chǎn)物(Ge、sb、Te的氧化物)出會成為研磨粒子,對介電層有一定的研磨速度,從而導致介電層損失。

   研磨液的研制是現(xiàn)階段GsT CMP技術開發(fā)的重要方面之一。研磨液的生產(chǎn)廠家試圖在研磨液中加入一些成分,加速Te(碲)的被氧化速率或是減慢Ge(鍺)和Sb(銻)的被氧化速率,從而解決研磨殘留的問題: