掃描電子強(qiáng)微鏡像襯度主要是利用樣品表面微區(qū)特征(如形貌,原子序數(shù)或化學(xué)成分,SC16C654BIB64晶體結(jié)構(gòu)或晶體取向等)的差異,在電子束作用下產(chǎn)生不同強(qiáng)度的二次電子信號,從而導(dǎo)致成像熒光屏上不同的lx域出現(xiàn)不同的亮度,獲得具有一定襯度的圖像。表面形貌襯度是利用對樣品表面形貌變化敏感的物理信號作為調(diào)制信號得到的一種像襯度。工次電子信號主要來自樣品淺表層,它的強(qiáng)度與原子序數(shù)沒有明確的關(guān)系,但對微區(qū)刻面相對于入射電子束的位向十分敏感。而且二次電子像分辨率高,非常適用于顯示形貌襯度。表面尖棱、小粒子、坑穴邊緣等結(jié)構(gòu)囚二次電子的產(chǎn)額高.在掃描像上這些位置亮度高,CD SEM主要利用形貌襯度,利用所觀察目標(biāo)的表面形狀的起伏產(chǎn)生襯度,冉配以自動測量的軟件,實現(xiàn)快速、高分辨率的CD測量。在集成電路生產(chǎn)過程中,溝槽的寬度、通孔的直徑、柵極的寬度、互連線的寬度等都可以用CD sEM進(jìn)行高精度的測量。