鍵合SOI
發(fā)布時間:2008/6/5 0:00:00 訪問次數(shù):742
硅-硅直接鍵合制備soi材料的主要工藝過程是: (1)鍵合,將兩個硅拋光片(其中一個或兩個硅片的表面有熱氧化層)進行清洗和活化處理,然后在室溫下貼合在一起,通過表面分子或原子間的作用力直接連在一起, 最后把預鍵合好的硅片在干氧氣氛中熱處理, 使鍵合界面發(fā)生復雜的物理化學反應,生成鍵合強度很大的共價鍵使鍵合的硅片成為一個整體;(2)減薄,減薄器件有源區(qū)硅層到微米甚至亞微米厚度, 這樣就得到了所需的soi材料。硅片表面平整度、粗糙度及表面顆?捎绊戞I合的質量, 會在界面產(chǎn)生空洞和應力。實驗證明
硅-硅直接鍵合制備soi材料的主要工藝過程是: (1)鍵合,將兩個硅拋光片(其中一個或兩個硅片的表面有熱氧化層)進行清洗和活化處理,然后在室溫下貼合在一起,通過表面分子或原子間的作用力直接連在一起, 最后把預鍵合好的硅片在干氧氣氛中熱處理, 使鍵合界面發(fā)生復雜的物理化學反應,生成鍵合強度很大的共價鍵使鍵合的硅片成為一個整體;(2)減薄,減薄器件有源區(qū)硅層到微米甚至亞微米厚度, 這樣就得到了所需的soi材料。硅片表面平整度、粗糙度及表面顆?捎绊戞I合的質量, 會在界面產(chǎn)生空洞和應力。實驗證明
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