不同清洗液的親水處理過程
發(fā)布時間:2008/6/5 0:00:00 訪問次數(shù):576
硅片親水處理前要進行化學清洗，親水處理必須滿足三個基本提條件：（1）親水處理溶液具有氧化作用，使硅片表面生成本征氧化層形成羥基。（2）親水處理溶液對硅片表面最好沒有腐蝕作用。（3）親水處理溶液對硅片表面去污能力強。硅片鍵合常用的氧化性親水處理溶液有h2so4/h2o2、nh4oh/h2o2，hno3/h2o2以及hf/h2o2 等。對于h2 so4 、
硅片親水處理前要進行化學清洗，親水處理必須滿足三個基本提條件：（1）親水處理溶液具有氧化作用，使硅片表面生成本征氧化層形成羥基。（2）親水處理溶液對硅片表面最好沒有腐蝕作用。（3）親水處理溶液對硅片表面去污能力強。硅片鍵合常用的氧化性親水處理溶液有h2so4/h2o2、nh4oh/h2o2，hno3/h2o2以及hf/h2o2 等。對于h2 so4 、
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