金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)
發(fā)布時(shí)間:2012/4/26 19:30:35 訪問次數(shù):1637
MOSFET的核心是由金屬一氧化物一半導(dǎo)體組ATF16V8B-15PU成的MOS結(jié)構(gòu),其基本結(jié)構(gòu)是由MOS結(jié)構(gòu)和兩個(gè)背對(duì)背的PN結(jié)構(gòu)成。在P型硅襯底上生長(zhǎng)一厚度為tox的薄S102層,在氧化層上淀積金屬或摻雜多晶硅的導(dǎo)電層作為柵極,并在柵極兩側(cè)利用擴(kuò)散或離子注入的方法形成兩高摻雜N+區(qū),分別稱為源區(qū)和漏區(qū),其擴(kuò)散深度即PN結(jié)的結(jié)深為z,再在其上制作金屬導(dǎo)電層作為源極和漏極。源區(qū)和漏區(qū)之間的區(qū)域稱為溝道區(qū)。兩PN結(jié)結(jié)面之間的距離為MOSFET的溝道長(zhǎng)度。MOS器件種類多樣。在P型襯底上制作N+型源、漏區(qū)的,其導(dǎo)電溝道為N型,即輸運(yùn)電流的載流子是電子,稱為NMOS;而在N型襯底上制作P+源、漏區(qū),以空穴導(dǎo)電,稱為PMOS。這是從導(dǎo)電載流子的極性來考慮,如從其工作方式來分,則有增強(qiáng)型和耗盡型兩種基本類型。增強(qiáng)型MOS指的是:當(dāng)柵極未加偏壓時(shí),不存在導(dǎo)電溝道,也就沒有漏源電流,只有當(dāng)外加?xùn)烹妷捍笥谀骋惶囟ǖ闹担ㄩ撝惦妷海⿻r(shí)才會(huì)形成導(dǎo)電溝道的器件,稱為常閉型MOS( EMOS);相反,耗犀型MOS指的是:當(dāng)MOSFET制成后就已形成導(dǎo)電溝道,只要有漏源電壓,不加?xùn)烹妷阂矔?huì)有漏源電流,即稱為常閉型MOS(EMOS)。理論上,NMOS和PMOS器件均有增強(qiáng)型和耗盡型之分。這就構(gòu)成了4種基本類型的MOSFET。由于它比JFET的溫度穩(wěn)定性好集成化時(shí)工藝簡(jiǎn)單,而廣泛用于大規(guī)模和超大規(guī)模的集成電路之中。
MOSFET的核心是由金屬一氧化物一半導(dǎo)體組ATF16V8B-15PU成的MOS結(jié)構(gòu),其基本結(jié)構(gòu)是由MOS結(jié)構(gòu)和兩個(gè)背對(duì)背的PN結(jié)構(gòu)成。在P型硅襯底上生長(zhǎng)一厚度為tox的薄S102層,在氧化層上淀積金屬或摻雜多晶硅的導(dǎo)電層作為柵極,并在柵極兩側(cè)利用擴(kuò)散或離子注入的方法形成兩高摻雜N+區(qū),分別稱為源區(qū)和漏區(qū),其擴(kuò)散深度即PN結(jié)的結(jié)深為z,再在其上制作金屬導(dǎo)電層作為源極和漏極。源區(qū)和漏區(qū)之間的區(qū)域稱為溝道區(qū)。兩PN結(jié)結(jié)面之間的距離為MOSFET的溝道長(zhǎng)度。MOS器件種類多樣。在P型襯底上制作N+型源、漏區(qū)的,其導(dǎo)電溝道為N型,即輸運(yùn)電流的載流子是電子,稱為NMOS;而在N型襯底上制作P+源、漏區(qū),以空穴導(dǎo)電,稱為PMOS。這是從導(dǎo)電載流子的極性來考慮,如從其工作方式來分,則有增強(qiáng)型和耗盡型兩種基本類型。增強(qiáng)型MOS指的是:當(dāng)柵極未加偏壓時(shí),不存在導(dǎo)電溝道,也就沒有漏源電流,只有當(dāng)外加?xùn)烹妷捍笥谀骋惶囟ǖ闹担ㄩ撝惦妷海⿻r(shí)才會(huì)形成導(dǎo)電溝道的器件,稱為常閉型MOS( EMOS);相反,耗犀型MOS指的是:當(dāng)MOSFET制成后就已形成導(dǎo)電溝道,只要有漏源電壓,不加?xùn)烹妷阂矔?huì)有漏源電流,即稱為常閉型MOS(EMOS)。理論上,NMOS和PMOS器件均有增強(qiáng)型和耗盡型之分。這就構(gòu)成了4種基本類型的MOSFET。由于它比JFET的溫度穩(wěn)定性好集成化時(shí)工藝簡(jiǎn)單,而廣泛用于大規(guī)模和超大規(guī)模的集成電路之中。
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