第8章已針對(duì)圖形分辨率和曝光光線波長(zhǎng)的關(guān)系做了詳細(xì)說(shuō)明。一般來(lái)講，NCP305LSQ09T1如果想要得到尺寸更小的圖形，就需要使用波長(zhǎng)更短的光源。然而，這將導(dǎo)致景深的縮短。在0.5 ym以下的工藝中，從I線到深紫外線，由于景深( DoF)的要求，我們不得不對(duì)系統(tǒng)做進(jìn)一步改進(jìn)，比如使用町變數(shù)值孔徑的鏡頭、環(huán)形光源、離軸照明、相移掩模版等。還有，隨著圖形尺寸的變小和圖形密度的增大，其他的一些光學(xué)效應(yīng)也開始起作用。以下我們針對(duì)這些問(wèn)題和解決方案做一些闡述。

   離軸光線

   將曝光光線從垂直軸移開( off-axis) - -些可以阻止在光刻膠引起駐波的光干涉現(xiàn)象。

    透鏡問(wèn)題和反射系統(tǒng)

   在光刻圖形形狀極端的情況下，通過(guò)透鏡系統(tǒng)曝光光束成為一個(gè)問(wèn)題，這個(gè)問(wèn)題就是吸收。一個(gè)曝光系統(tǒng)應(yīng)該傳送特定的波長(zhǎng)（或受控的一組波長(zhǎng)）到光刻膠表面。透鏡所用的材料能在要求的范圍內(nèi)吸收輻射，在193 nm以下這變成了嚴(yán)重的問(wèn)題。氟化鈣(CaFz)是一種在這個(gè)范圍傳送的材料，并期望應(yīng)用在157 nm節(jié)蠃1。