用于化學(xué)分析的電子分光鏡
發(fā)布時(shí)間:2015/11/11 19:16:11 訪問次數(shù):697
解決表面污染物問題通常需要r解其化學(xué)狀態(tài)。對表面氯元素的觀測, NAND256W3A2BN6E俄歇電子譜結(jié)果并不能確定它是以鹽酸還是以三氯化苯的形式存在。對氯形態(tài)的確定有利于r解和消除污染的來源:
用于化學(xué)分析的電子分光鏡( ESCA)是一種可以用來決定表面化學(xué)性質(zhì)的儀器。、這種儀器的工作原理和俄歇技術(shù)相似。然而,X射線代替電子束被用做轟擊射線。通過轟擊,表面釋放光電子。通過對光電子信息的分析,可以得知污染物的化學(xué)成分。遺憾的是,電子分光鏡的化學(xué)分析( ESCA)的X射線比許多集成電路特征尺寸還寬。光束的直徑限制其只能進(jìn)行微米數(shù)量級(jí)的表面分析。正好相反,俄歇電子束的寬度可以達(dá)到零。
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法( TOF-SIMS)表面分析能使用許多入射射線源,例加,釹YAG激光、銫離子束或鎵離子束18一。
對于這種方法,激發(fā)能量以脈沖式傳輸和電離表面材料,產(chǎn)生二次電子,并將其加速到質(zhì)譜儀。在質(zhì)譜儀中,測量每個(gè)離子從表面出來的飛行時(shí)間。這個(gè)飛行時(shí)間指示表面的元素種類。二次離子質(zhì)譜法分析還能決定結(jié)點(diǎn)的深度。飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法可取樣至卜分之幾埃的深度㈠9“。并有區(qū)別有機(jī)物和無機(jī)物的能力,這些都是實(shí)驗(yàn)室分析的主要手段。
解決表面污染物問題通常需要r解其化學(xué)狀態(tài)。對表面氯元素的觀測, NAND256W3A2BN6E俄歇電子譜結(jié)果并不能確定它是以鹽酸還是以三氯化苯的形式存在。對氯形態(tài)的確定有利于r解和消除污染的來源:
用于化學(xué)分析的電子分光鏡( ESCA)是一種可以用來決定表面化學(xué)性質(zhì)的儀器。、這種儀器的工作原理和俄歇技術(shù)相似。然而,X射線代替電子束被用做轟擊射線。通過轟擊,表面釋放光電子。通過對光電子信息的分析,可以得知污染物的化學(xué)成分。遺憾的是,電子分光鏡的化學(xué)分析( ESCA)的X射線比許多集成電路特征尺寸還寬。光束的直徑限制其只能進(jìn)行微米數(shù)量級(jí)的表面分析。正好相反,俄歇電子束的寬度可以達(dá)到零。
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法( TOF-SIMS)表面分析能使用許多入射射線源,例加,釹YAG激光、銫離子束或鎵離子束18一。
對于這種方法,激發(fā)能量以脈沖式傳輸和電離表面材料,產(chǎn)生二次電子,并將其加速到質(zhì)譜儀。在質(zhì)譜儀中,測量每個(gè)離子從表面出來的飛行時(shí)間。這個(gè)飛行時(shí)間指示表面的元素種類。二次離子質(zhì)譜法分析還能決定結(jié)點(diǎn)的深度。飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法可取樣至卜分之幾埃的深度㈠9“。并有區(qū)別有機(jī)物和無機(jī)物的能力,這些都是實(shí)驗(yàn)室分析的主要手段。
上一篇:俄歇電子譜
上一篇:堆疊厚度和成分的評(píng)估
熱門點(diǎn)擊
- 干法刻蝕中光刻膠的影響
- 低壓配電系統(tǒng)N線的電流
- CVD的工藝步驟
- 靜態(tài)涂膠工藝
- 注入阱和傳統(tǒng)的阱
- 熱電偶緊靠著石英爐管和控制電源
- 其他應(yīng)用RTP技術(shù)的工藝包括
- 表面張力引力是另外一個(gè)問題
- 外延硅
- 電纜頭制作
推薦技術(shù)資料
- 單片機(jī)版光立方的制作
- N視頻: http://v.youku.comN_sh... [詳細(xì)]