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液態(tài)源擴(kuò)散

發(fā)布時(shí)間:2017/5/14 18:17:06 訪問次數(shù):1739

   液態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源為液態(tài)[如PC)C圮、BBr3、B(CH^03)等],由保護(hù)性氣體攜帶進(jìn)入擴(kuò)散系統(tǒng)的擴(kuò)散摻雜過程稱為液態(tài)源擴(kuò)散,液態(tài)源擴(kuò)散系統(tǒng)如圖518所示。

      

   攜帶氣體(通常是氮?dú)?通過源瓶,把雜質(zhì)源蒸氣帶入擴(kuò)散爐管內(nèi)。液態(tài)源R1EX24064ASASOA一般都是雜質(zhì)化合物,在高溫下雜質(zhì)化合物與硅反應(yīng)釋放出雜質(zhì)原子;或者雜質(zhì)化合物先分解產(chǎn)生雜質(zhì)的氧化物,氧化物再與硅反應(yīng)釋放出雜質(zhì)原子。進(jìn)人擴(kuò)散爐管內(nèi)的氣體除了攜帶雜質(zhì)的氣體外,還有一部分不通過源瓶而直接進(jìn)人爐內(nèi),起稀釋和控制濃度的作用,對(duì)某些雜質(zhì)源還必須通人進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)所需要的氣體。在液態(tài)源擴(kuò)散中,雖然也可以通過調(diào)節(jié)源溫來改變雜質(zhì)源的濃度,但為了保證穩(wěn)定性和重復(fù)性,擴(kuò)散時(shí)源溫通?刂圃0℃。液態(tài)的雜質(zhì)源容易水解而變質(zhì),所以對(duì)攜帶氣體要進(jìn)行純化和千燥處理。液態(tài)源的特點(diǎn)是不用配源,一次裝源后可用較長(zhǎng)的時(shí)問,且系統(tǒng)簡(jiǎn)單,操作方便,生產(chǎn)效率高,重復(fù)性和均勻性都較好。但它受溫度、時(shí)間、流量、雜質(zhì)源的液面大小及系統(tǒng)是否漏氣等外界因素的影響較大,因此擴(kuò)散過程中要求準(zhǔn)確控制爐溫、擴(kuò)散時(shí)間、氣體流量和源溫等工藝參數(shù),源瓶的密封性要好,擴(kuò)散系統(tǒng)不能漏氣。在這種情況下,重復(fù)性和穩(wěn)定性一般還能滿足要求,是目前使用較廣泛的一種方法。

 

   液態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源為液態(tài)[如PC)C圮、BBr3、B(CH^03)等],由保護(hù)性氣體攜帶進(jìn)入擴(kuò)散系統(tǒng)的擴(kuò)散摻雜過程稱為液態(tài)源擴(kuò)散,液態(tài)源擴(kuò)散系統(tǒng)如圖518所示。

      

   攜帶氣體(通常是氮?dú)?通過源瓶,把雜質(zhì)源蒸氣帶入擴(kuò)散爐管內(nèi)。液態(tài)源R1EX24064ASASOA一般都是雜質(zhì)化合物,在高溫下雜質(zhì)化合物與硅反應(yīng)釋放出雜質(zhì)原子;或者雜質(zhì)化合物先分解產(chǎn)生雜質(zhì)的氧化物,氧化物再與硅反應(yīng)釋放出雜質(zhì)原子。進(jìn)人擴(kuò)散爐管內(nèi)的氣體除了攜帶雜質(zhì)的氣體外,還有一部分不通過源瓶而直接進(jìn)人爐內(nèi),起稀釋和控制濃度的作用,對(duì)某些雜質(zhì)源還必須通人進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)所需要的氣體。在液態(tài)源擴(kuò)散中,雖然也可以通過調(diào)節(jié)源溫來改變雜質(zhì)源的濃度,但為了保證穩(wěn)定性和重復(fù)性,擴(kuò)散時(shí)源溫通?刂圃0℃。液態(tài)的雜質(zhì)源容易水解而變質(zhì),所以對(duì)攜帶氣體要進(jìn)行純化和千燥處理。液態(tài)源的特點(diǎn)是不用配源,一次裝源后可用較長(zhǎng)的時(shí)問,且系統(tǒng)簡(jiǎn)單,操作方便,生產(chǎn)效率高,重復(fù)性和均勻性都較好。但它受溫度、時(shí)間、流量、雜質(zhì)源的液面大小及系統(tǒng)是否漏氣等外界因素的影響較大,因此擴(kuò)散過程中要求準(zhǔn)確控制爐溫、擴(kuò)散時(shí)間、氣體流量和源溫等工藝參數(shù),源瓶的密封性要好,擴(kuò)散系統(tǒng)不能漏氣。在這種情況下,重復(fù)性和穩(wěn)定性一般還能滿足要求,是目前使用較廣泛的一種方法。

 

相關(guān)技術(shù)資料
5-14液態(tài)源擴(kuò)散
相關(guān)IC型號(hào)
R1EX24064ASASOA
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