⒛世紀(jì)90年代用于硅片制造的主流精細(xì)光刻設(shè)備是分步重復(fù)投影光刻機(jī)(簡(jiǎn)稱(chēng)步進(jìn)光刻機(jī),如圖1033所示)。 M74HC244TTR分步重復(fù)投影光刻機(jī)有它們獨(dú)特的名字是囚為這種設(shè)各一次只投影一個(gè)曝光場(chǎng)(這可能是硅片上的一個(gè)或多個(gè)芯片),然后步進(jìn)到硅片上另一個(gè)位置重復(fù)曝光。步進(jìn)光刻機(jī)在⒛世紀(jì)80年代末期主導(dǎo)了℃制造業(yè),主要用來(lái)形成關(guān)鍵尺寸小到0.35um(常規(guī)I線(xiàn)光刻膠)和O,25um(深紫外光刻膠)的圖形。

   步進(jìn)光刻機(jī)使用投影掩模板,上面包含了一個(gè)曝光場(chǎng)內(nèi)對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)芯片的圖形。步進(jìn)光刻機(jī)的光學(xué)投影曝光系統(tǒng)使用折射光學(xué)系統(tǒng)把版圖投影到硅片上。光學(xué)步進(jìn)光刻機(jī)的一大優(yōu)勢(shì)在于它具有使用縮小透鏡的能力。傳統(tǒng)上,I線(xiàn)步進(jìn)光刻機(jī)的投影掩模板圖形尺寸是實(shí)際像的4倍、5倍或10倍(最初步進(jìn)光刻機(jī)使用10倍版,后來(lái)是5倍和4倍)。使用5倍版的光刻機(jī)需要一個(gè)5:1的縮小透鏡把正確的圖形尺寸成像在硅片表面。這個(gè)縮小的比例使得投影掩模板的制造變得更容易,因?yàn)橥队把谀０迳系奶卣鲌D形是硅片上最終圖形的5倍。另外,至少有一家步進(jìn)光刻機(jī)廠商生產(chǎn)1:1投影步進(jìn)光刻機(jī)。不縮小的投影光刻機(jī)的好處是成本低并可用于非關(guān)鍵圖形制造。